Zal de technisch adviseur van RSM de voordelen van cilindrische en vlakke magnetronsputterdoelen met u delen? Vergeleken met andere magnetronsputterdoelen behouden cilindrische en vlakke magnetronsputterdoelen de voordelen van een goede coatinguniformiteit van rechthoekige vlakke doelen, en kunnen ze het gebruik van doelen maximaliseren op de volgende twee manieren:
(1) Wanneer de twee groepen (vier) ringvormige putten op het oppervlak van het doel een bepaalde diepte bereiken, kan de doelkern (magneetdeel) 45 ° worden gedraaid ten opzichte van de doelbuis, zodat andere gebieden op de doelbuis die niet zijn gecorrodeerd, kunnen worden gebruikt;
(2) Wanneer de doelkern van het cilindrische en vlakke magnetronsputterdoel is ontworpen als een roterende doelkern (de doelkern roteert tijdens het sputteren), kan het oppervlak van het doel laag voor laag gelijkmatig worden afgesputterd zonder putjes. Op dit moment zal het doel het meest effectief worden gebruikt en kan de benuttingsgraad van het doel 50% ~ 60% bereiken. Wanneer het doelmateriaal edelmetaal is, is dit uiteraard van groot belang.
Door het principe van de magneet met poolschoen in een coaxiaal cilindrisch magnetronsputterdoel te gebruiken om het probleem van het magnetische eindveld op te lossen, kan het rechthoekige vlakke doel worden getransformeerd in een cilindrische en vlakke magnetronsputterdoel. Het doel kan de bezettingsgraad van het doel maximaliseren terwijl de goede coatinguniformiteit van het rechthoekige vlakke doel behouden blijft om de economische voordelen te verbeteren.
Posttijd: 04 juli 2022