सिलिकन स्पटरिङ लक्ष्य

केही ग्राहकहरूले सिलिकन स्पटरिङ लक्ष्यहरूको बारेमा सोधे। अब, RSM टेक्नोलोजी विभागका सहकर्मीहरूले तपाईंको लागि सिलिकन स्पटरिङ लक्ष्यहरू विश्लेषण गर्नेछन्।

सिलिकन स्पटरिङ लक्ष्य सिलिकन इन्गटबाट धातु स्पटरिङ गरेर बनाइन्छ। लक्ष्य विभिन्न प्रक्रियाहरू र विधिहरूद्वारा निर्मित गर्न सकिन्छ, इलेक्ट्रोप्लेटिंग, स्पटरिङ र वाष्प निक्षेप सहित। मनपर्ने अवतारहरूले थप सफाई र नक्काशी प्रक्रियाहरू प्रदान गर्दछ वांछित सतह अवस्थाहरू प्राप्त गर्न। उत्पादित लक्ष्य अत्यधिक प्रतिबिम्बित छ, 500 angstroms भन्दा कम र अपेक्षाकृत छिटो जलाउने गतिको साथ। सिलिकन लक्ष्यद्वारा तयार गरिएको फिल्ममा कम कण संख्या छ।

सिलिकन स्पटरिङ लक्ष्य सिलिकन आधारित सामग्रीहरूमा पातलो फिल्महरू जम्मा गर्न प्रयोग गरिन्छ। तिनीहरू सामान्यतया प्रदर्शन, अर्धचालक, अप्टिकल, अप्टिकल संचार र गिलास कोटिंग अनुप्रयोगहरूमा प्रयोग गरिन्छ। तिनीहरू हाई-टेक कम्पोनेन्टहरू नक्काशीका लागि पनि उपयुक्त छन्। N-प्रकार सिलिकन स्पटरिङ लक्ष्यहरू विभिन्न उद्देश्यका लागि प्रयोग गर्न सकिन्छ। यो इलेक्ट्रोनिक्स, सौर सेल, अर्धचालक र प्रदर्शन सहित धेरै क्षेत्रहरूमा लागू हुन्छ।

सिलिकन स्पटरिङ लक्ष्य सतहमा सामग्रीहरू जम्मा गर्न प्रयोग गरिने स्पटरिङ सहायक उपकरण हो। सामान्यतया, यसमा सिलिकन परमाणुहरू हुन्छन्। स्पटरिङ प्रक्रियालाई सामग्रीको सटीक मात्रा चाहिन्छ, जुन ठूलो चुनौती हुन सक्छ। सिलिकन आधारित कम्पोनेन्टहरू बनाउनको लागि आदर्श स्पटरिङ उपकरणहरू प्रयोग गर्नु एक मात्र तरिका हो। यो ध्यान दिन लायक छ कि सिलिकन स्पटरिंग लक्ष्य स्पटरिंग प्रक्रियामा प्रयोग गरिएको छैन।