हाम्रो वेबसाइटहरूमा स्वागत छ!

प्रयोगको क्रममा लक्षित सामग्रीहरू स्पटरिङका लागि आवश्यकताहरू

स्पटर्ड लक्षित सामग्रीहरू प्रयोगको क्रममा उच्च आवश्यकताहरू छन्, शुद्धता र कण आकारको लागि मात्र होइन, तर समान कण आकारको लागि पनि। यी उच्च आवश्यकताहरूले हामीलाई स्पटरिङ लक्ष्य सामग्रीहरू प्रयोग गर्दा थप ध्यान दिनुहोस्।

1. स्पटरिङ तयारी

भ्याकुम चेम्बर, विशेष गरी स्पटरिङ प्रणालीको सरसफाई कायम राख्न यो धेरै महत्त्वपूर्ण छ। स्नेहक, धुलो, र अघिल्लो कोटिंग्सबाट कुनै पनि अवशेषले पानी जस्ता प्रदूषकहरू जम्मा गर्न सक्छ, सीधा भ्याकुमलाई असर गर्छ र फिल्म निर्माण असफल हुने सम्भावना बढाउँछ। सर्ट सर्किट, टारगेट आर्किङ, नराम्रो फिल्म बनाउने सतहहरू, र अत्यधिक रासायनिक अशुद्धताहरू सामान्यतया अशुद्ध स्पटरिङ चेम्बरहरू, बन्दुकहरू र लक्ष्यहरूका कारण हुन्छन्।

कोटिंगको संरचनात्मक विशेषताहरू कायम राख्न, स्पटरिङ ग्याँस (आर्गन वा अक्सिजन) सफा र सुक्खा हुनुपर्छ। स्पटरिङ च्याम्बरमा सब्सट्रेट स्थापना गरेपछि, प्रक्रियाको लागि आवश्यक भ्याकुम स्तर प्राप्त गर्न हावा निकाल्न आवश्यक छ।

2. लक्ष्य सफाई

लक्ष्य सफाईको उद्देश्य लक्ष्यको सतहमा अवस्थित कुनै पनि धूलो वा फोहोर हटाउनु हो।

3. लक्ष्य स्थापना

लक्ष्य सामग्रीको स्थापना प्रक्रियाको समयमा ध्यान दिनको लागि सबैभन्दा महत्त्वपूर्ण कुरा लक्ष्य सामग्री र स्पटरिंग बन्दुकको चिसो पर्खाल बीच राम्रो थर्मल जडान सुनिश्चित गर्न हो। यदि चिसो पर्खाल वा पछाडिको प्लेट गम्भीर रूपमा विकृत छ भने, यसले लक्ष्य सामग्रीको स्थापनाको क्रममा क्र्याक वा झुकाउन सक्छ। पछाडिको लक्ष्यबाट लक्षित सामग्रीमा तातो स्थानान्तरण धेरै प्रभावित हुनेछ, फलस्वरूप स्पटरिंगको समयमा तातो नष्ट गर्न असक्षम हुन्छ, अन्ततः लक्ष्य सामग्रीको क्र्याक वा विचलनमा नेतृत्व गर्दछ।

4. सर्ट सर्किट र सील निरीक्षण

लक्षित सामग्रीको स्थापना पछि, यो सर्ट सर्किट र सम्पूर्ण क्याथोडको सील जाँच गर्न आवश्यक छ। क्याथोड सर्ट सर्किट भएको छ कि छैन भनेर निर्धारण गर्न ओममिटर र मेगोहमिटर प्रयोग गर्न सिफारिस गरिन्छ। क्याथोड सर्ट सर्किट भएको छैन भनी पुष्टि गरेपछि, कुनै चुहावट छ कि छैन भनेर निर्धारण गर्न क्याथोडमा पानी इन्जेक्सन गरेर चुहावट पत्ता लगाउन सकिन्छ।

5. स्पटरिङ पूर्व लक्षित सामग्री

लक्षित सामग्रीको सतहलाई सफा गर्न सक्ने लक्ष्य सामग्रीको पूर्व स्पटरिङको लागि शुद्ध आर्गन ग्यास प्रयोग गर्न सिफारिस गरिन्छ। लक्षित सामग्रीको लागि पूर्व स्पटरिङ प्रक्रियाको क्रममा बिस्तारै स्पटरिङ पावर बढाउन सिफारिस गरिन्छ। सिरेमिक लक्ष्य सामग्री को शक्ति


पोस्ट समय: अक्टोबर-19-2023