स्पटरिङ लक्ष्य र एल्युमिनियम लक्ष्य को प्रभाव

स्पटरिङ लक्ष्य एक इलेक्ट्रोनिक सामग्री हो जसले एक परमाणु स्तरमा इलेक्ट्रोनिक सब्सट्रेटमा मिश्र धातु वा धातु अक्साइड जस्ता पदार्थ संलग्न गरेर पातलो फिल्म बनाउँछ। ती मध्ये, कालो पार्ने फिल्मको लागि स्पटरिङ लक्ष्यलाई कार्बनिक EL वा लिक्विड क्रिस्टल प्यानलमा तारहरू कालो पार्न र TFT तारहरूको दृश्य प्रकाश प्रतिबिम्ब (कम प्रतिबिम्ब) कम गर्नको लागि प्रयोग गरिन्छ। स्पटर लक्ष्यका निम्न फाइदाहरू र प्रभावहरू छन्। अघिल्लो उत्पादनहरूको तुलनामा, यसले विभिन्न डिस्प्लेहरूको उत्कृष्टता र डिजाइन स्वतन्त्रताको उच्च डिग्री सुधार गर्न मद्दत गर्दछ, र सेमीकन्डक्टर सम्बन्धित उत्पादनहरूको तार प्रतिबिम्बित प्रकाशले गर्दा हुने आवाज कम गर्दछ।

　　एल्युमिनियम लक्ष्य को लाभ र प्रभावहरु:

(१) तारिङमा एल्युमिनियम लक्ष्य बनेपछि, देखिने प्रकाश कम गर्न सकिन्छ

अघिल्लो उत्पादनहरूको तुलनामा, यसले कम प्रतिबिम्ब प्राप्त गर्न सक्छ।

(2) DC sputtering प्रतिक्रियाशील ग्यास बिना प्रदर्शन गर्न सकिन्छ

अघिल्लो उत्पादनहरूको तुलनामा, यो ठूलो सब्सट्रेटहरूको फिल्म एकरूपता महसुस गर्न मद्दत गर्दछ।

(3) फिल्म बनेपछि, नक्काशी प्रक्रिया तारिङ संगै प्रदर्शन गर्न सकिन्छ

ग्राहकको अवस्थित नक्काशी प्रक्रिया अनुसार सामग्री समायोजन गर्नुहोस्, र अवस्थित प्रक्रिया परिवर्तन नगरी तारिङसँग सँगै नक्काशी गर्न सक्नुहुन्छ। साथै, कम्पनीले ग्राहकहरूको स्पटरिंग अवस्था अनुसार समर्थन पनि प्रदान गर्नेछ।

(4) उत्कृष्ट गर्मी प्रतिरोध, पानी र क्षार प्रतिरोध

पानी प्रतिरोध र क्षार प्रतिरोधको अतिरिक्त, यसमा उच्च ताप प्रतिरोध पनि छ, त्यसैले फिल्मको विशेषताहरू TFT तारिङ प्रशोधन प्रक्रियामा परिवर्तन हुनेछैन।