FeNi स्पटरिङ लक्ष्य उच्च शुद्धता पातलो फिल्म Pvd कोटिंग कस्टम मेड

आइरन निकेल स्पटरिङ लक्ष्य भ्याकुम मेल्टिङ, कास्टिङ र पीएमको माध्यमबाट निर्मित हुन्छ। यो कम क्षेत्र शक्ति मा एक धेरै उच्च चुम्बकीय पारगम्यता छ।

फलामको निकल लक्ष्य (निकेल>30 wt%) ले कोठाको तापक्रममा अनुहार केन्द्रित घन संरचना देखाउँछ। परम्परागत रूपमा निकेल आइरन लक्ष्यहरूमा निकलको 36% भन्दा बढी संरचना हुन्छ, र यसलाई चार कोटीहरूमा विभाजन गर्न सकिन्छ: 35%～40% Ni-Fe、45%～50% Ni-Fe、50%～65% Ni-Fe र 70% ८१% नि-फे। प्रत्येकलाई गोलाकार, आयताकार, वा विमान चुम्बकीय हिस्टेरेसिस लूपको साथ सामग्रीमा बनाउन सकिन्छ।

निकेल आइरन (Ni-Fe) स्पटरिङ लक्ष्यहरू अनुप्रयोगहरूको विस्तृत दायरामा प्रयोग गरिन्छ, उदाहरणका लागि चुम्बकीय भण्डारण मिडिया र EMI संरक्षण उपकरणहरू।

रिच स्पेशल मटेरियल्स स्पटरिङ टार्गेटको निर्माणमा माहिर छ र ग्राहकको स्पेसिफिकेशन अनुसार आइरन निकेल स्पटरिङ सामग्री उत्पादन गर्न सक्छ। हामी शुद्धता 99.99% र हाम्रा विशिष्ट रचनाहरू आपूर्ति गर्न सक्छौं: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%। थप जानकारीको लागि, कृपया हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्।