CrTi मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता पातलो फिल्म Pvd कोटिंग कस्टम मेड

लक्ष्यहरू क्रोमियम र टाइटेनियम पाउडरहरू मिश्रण गरेर वा भ्याकुम पग्लेर र त्यसपछि पूर्ण घनत्वमा कम्प्याक्ट गरेर तयार गरिन्छ। यसरी कम्प्याक्ट गरिएको सामग्रीलाई वैकल्पिक रूपमा sintered र त्यसपछि इच्छित लक्ष्य आकारमा गठन गर्न सकिन्छ।

क्रोम टाइटेनियम स्पटरिङ लक्ष्यमा उच्च शुद्धता, समान माइक्रोस्ट्रक्चर, उच्च घनत्व र कम ग्यास सामग्री छ। यो व्यापक रूपमा मोल्ड काट्ने उपकरणहरूको लागि पातलो फिल्महरूको गठनमा प्रयोग गरिन्छ। डिपोजिसन प्रक्रियाको क्रममा, एक TiCN कोटिंग गठन गर्न सकिन्छ जुन सीधा गोल्फ बलको बाहिरी सतहमा लागू गर्न सकिन्छ। TiCN कोटिंगलाई धातुको सतहमा नजिकबाट जोड्न सकिन्छ। यस प्रकारको कोटिंग यसको उत्कृष्ट मेकानिकल गुणहरू, कठोरता र कठोरताको लागि गोल्फ कोर्सको वातावरणमा पूर्ण रूपमा फिट हुन सक्छ।

हाम्रो क्रोमियम टाइटेनियम स्पटरिङ लक्ष्यहरू भण्डारण र यातायातको समयमा क्षति रोक्न र हाम्रो उत्पादनहरूको गुणस्तरलाई तिनीहरूको मौलिक अवस्थामा जोगाउन सावधानीपूर्वक ह्यान्डल गरिन्छ।

रिच विशेष सामग्रीहरू स्पटरिङ लक्ष्यहरूको उत्पादनमा माहिर छन् र ग्राहक विशिष्टताहरूमा क्रोमियम र टाइटेनियम स्पटरिङ सामग्रीहरू उत्पादन गर्न सक्छन्। हाम्रा उत्पादनहरूमा उत्कृष्ट मेकानिकल गुणहरू, एकरूप संरचना, पालिश गरिएका सतहहरू र कुनै पृथकीकरण, पोरोसिटी वा दरारहरू छैनन्। थप जानकारीको लागि, कृपया हामीलाई सम्पर्क गर्नुहोस्।