WNiCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။

Tungsten Nickel Copper material သည် Tungsten ပါဝင်မှု 85-99% ပါဝင်ပြီး နီကယ်၊ ကော့ပါး၊ မိုလီဘဒင်နမ် နှင့် ခရိုနီယမ်တို့ ပါဝင်သည့် တန်စတင်အခြေခံ သတ္တုစပ်ဖြစ်သည်။ ၎င်းတွင် ကောင်းမွန်သော စက်ယန္တရားဂုဏ်သတ္တိများ၊ အပူနှင့်လျှပ်စစ်စီးကူးမှု၊ သံလိုက်မဟုတ်သော၊ အလွန်ကောင်းမွန်သော ဓာတ်ရောင်ခြည်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ ချဲ့ထွင်မှုနည်းပါးသော ချဲ့ထွင်မှုကိန်းဂဏန်းများ ပါ၀င်ပြီး ထိခိုက်လွယ်သော ပတ်ဝန်းကျင်တွင် ဓာတ်ရောင်ခြည်ကာကွယ်မှုတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အသုံးပြုစေသည်။ သံလိုက်မဟုတ်သော gyrostatic ရဟတ်ပစ္စည်းများ လိုအပ်ခြင်း၊ လေယာဉ်ပေါ်တွင် တန်ပြန်အလေးချိန်နှင့် ကူရှင်ပစ္စည်းများကို စစ်ရေးပရောဂျက်တွင် သံချပ်ကာအပေါက်ဖောက်ခြင်းနှင့် ကျည်ဆန်များအဖြစ် အသုံးပြု၍ ဆေးဘက်ဆိုင်ရာလုပ်ငန်းတွင် X-ray-preventing shielding material အဖြစ် အသုံးပြုခြင်း၊ -density alloy oscillator၊ မိုဘိုင်းလ်ဖုန်းရှိ bore piece နှင့် electrode ပစ္စည်းများ စသည်တို့ကို အရပ်ဘက်စက်မှုလုပ်ငန်းတွင် အသုံးပြုသည့် လျှပ်စစ်စိတ်ပျက်စရာ၊

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများသည် Sputtering ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အထူးပြုထားပြီး ဝယ်ယူသူများ၏ သတ်မှတ်ချက်များနှင့်အညီ Tungsten Nickel Copper Sputtering Materials ကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။