WNi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားသည်။

Tungsten Molybdenum အလွိုင်း sputtering ပစ်မှတ်ကို ဖုန်မှုန့် သတ္တုဗေဒ ၏ လေဟာနယ် အရည်ပျော်မှု ဖြင့် ဖန်တီးသည်။ Tungsten ၏ပါဝင်မှုသည် အများအားဖြင့် 30% နှင့် 50% ကြားတွင်ရှိသည်။ Tungsten Molybdenum ပစ်မှတ်များကို ဒီဇိုင်းစက္ကူအလိုက် မတူညီသော ဂျီဩမေတြီပုံစံများဖြင့် ရရှိနိုင်ပါသည်။

Tungsten Molybdenum သတ္တုစပ်သည် အီလက်ထရွန်းနစ်၊ အာကာသယာဉ်၊ လက်နက်များနှင့် အခြားနယ်ပယ်များတွင် အသုံးပြုသည့် အရေးပါသော ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ Tungsten ၏ 30% ပါ၀င်သော Molybdenum အလွိုင်းသည် ဇင့်အရည်ကို ဆန့်ကျင်ဘက်သို့ အလွန်ကောင်းမွန်သော သံချေးတက်မှုကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး လှုံ့ဆော်ပေးခြင်း၊ ပိုက်နှင့် ကွန်တိန်နာအတွင်းသားများနှင့် သွပ်အရည်ကျိုစက်မှုလုပ်ငန်း၏ အခြားသော အစိတ်အပိုင်းများထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးပြုပါသည်။ Tungsten Molybdenum သည် အပူချိန်မြင့်မားသော သင့်လျော်မှုရှိပြီး ပေါ့ပါးသော အလေးချိန်ရှိသောကြောင့် မြင့်မားသောအပူချိန်အောက်တွင် စက်ကိရိယာများလည်ပတ်သည့် မည်သည့် application သို့မဟုတ် လုပ်ငန်းများတွင်မဆို ဒုံးပျံနှင့် ဒုံးပျံအစိတ်အပိုင်းများ၊ ချည်မျှင်ပတ်လမ်းများနှင့် အခြားသော အပူချိန်မြင့်ပစ္စည်းများကဲ့သို့သော W-Mo သတ္တုစပ်များကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် အကျိုးကျေးဇူးရရှိနိုင်ပါသည်။

Rich Special Materials သည် Sputtering Target ၏ ထုတ်လုပ်သူဖြစ်ပြီး ဝယ်ယူသူများ၏ သတ်မှတ်ချက်များအရ Tungsten Molybdenum Sputtering Materials ကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။