TiNi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားပါသည်။

တိုက်တေနီယမ် နီကယ်စပတာပစ်ပစ်မှတ်များကို လေဟာနယ်အရည်ပျော်ခြင်းနှင့် ပါဝါသတ္တုဗေဒနည်းဖြင့် ထုတ်လုပ်သည်။ Martensite နှင့် Austenite တည်ဆောက်ပုံ နှစ်ခုလုံးသည် အပူချိန်နှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဖိစီးမှုများကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာနိုင်သည်။

တိုက်တေနီယမ်နီကယ်သတ္တုစပ်သည် ပုံသဏ္ဍာန်မှတ်ဉာဏ်သတ္တုစပ် (SMA) မှတစ်ခုဖြစ်သည်။ SMA သည် အပူချိန်နိမ့်သော အပူချိန်တွင် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ပုံပျက်ခြင်းကို ခံရပ်ပြီးနောက် သင့်လျော်သော အပူ သို့မဟုတ် ဖိစီးမှု ထိတွေ့မှုမှတစ်ဆင့် ၎င်းတို့၏ မူလပုံစံကို ပြန်လည်ရရှိနိုင်ပါသည်။ SMA coatings များသည် အသုံးဝင်သော ဂုဏ်သတ္တိများစွာကို ပြသသည်- မှတ်ဉာဏ်အကျိုးသက်ရောက်မှု၊ အရိုးကျိုးခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ အလွန် elasticity၊ မြင့်မားသော ခွန်အားနှင့် ductility ကိုပြသသည်။ TiNi ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များ၏ထူးခြားသောအင်္ဂါရပ်ကြောင့် Titanium Nickel Sputtering Targets သည် အရိုး၊ နှလုံးသွေးကြောနှင့် သွားတိုက်ဆေး၊ ခွဲစိတ်ကိရိယာများနှင့် အာရုံကြောခွဲစိတ်မှုဆိုင်ရာ လုပ်ငန်းများစွာတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုထားသည်။

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများသည် Sputtering ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အထူးပြုထားပြီး ဝယ်ယူသူများ၏ သတ်မှတ်ချက်များနှင့်အညီ တိုက်တေနီယမ်နီကယ်စပတာထုတ်ပစ္စည်းများကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။