TiNbZr Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။

တိုက်တေနီယမ် Niobium Zirconium sputtering ပစ်မှတ်ကို လေဟာနယ် အရည်ပျော်မှုဖြင့် ဖန်တီးသည်။ ၎င်းတွင် elasticity နည်းပါးသော၊ မြင့်မားသောခွန်အား၊ ခိုင်ခံ့မှု၊ ပင်ပန်းနွမ်းနယ်မှုနှင့် သံချေးတက်ခြင်းတို့ကို ခံနိုင်ရည်ရှိသော အပြုအမူများရှိသည်။ ၎င်းသည် ဇီဝသဟဇာတပစ္စည်းဖြစ်ပြီး သွားနှင့်ခံတွင်း၊ အရိုး၊ နှလုံးသွေးကြောနှင့် အခြားဆေးဘက်ဆိုင်ရာ အစားထိုးပစ္စည်းများနှင့် ကိရိယာများ၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို တိုးတက်ကောင်းမွန်စေရန်အတွက် မြင့်မားသော ကြံ့ခိုင်မှုနှင့် ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိသည့် ဆေးဘက်ဆိုင်ရာကိရိယာအသုံးချပရိုဂရမ်များတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုနိုင်ပါသည်။ .

Rich Special Materials သည် Sputtering Target ၏ ထုတ်လုပ်သူဖြစ်ပြီး ဝယ်ယူသူများ၏ သတ်မှတ်ချက်များအရ Titanium Niobium Zirconium Sputtering Materials ကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။