လက်ကား TaNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်တိုင်းကျ ထုတ်လုပ်သူ နှင့် ထုတ်လုပ်သူ

တန်တလမ် နီအိုဘီယမ်

TaNb Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသော အထူးအသားပေးပုံ

အတိုချုံးဖော်ပြချက်-

အမျိုးအစား	Alloy Sputtering ပစ်မှတ်
ဓာတုဖော်မြူလာ	Tanb
ဖွဲ့စည်းမှု	တန်တလမ် နီအိုဘီယမ်
သန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်း။	99.9%၊ 99.95%၊ 99.99%
ပုံသဏ္ဍာန်	ပန်းကန်များ၊ ကော်လံပစ်မှတ်များ၊ arc cathodes၊ စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်သည်။
ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်	ဖုန်စုပ်စက် အရည်ပျော်ခြင်း။
ရရှိနိုင်သောအရွယ်အစား	L≤2000mm၊W≤200mm

ကျွန်ုပ်တို့ထံ အီးမေးလ်ပို့ပါ။

ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

ထုတ်ကုန်အမှတ်အသား

Tantalum Niobium Sputtering ပစ်မှတ် ဖော်ပြချက်

Tantalum Niobium sputtering ပစ်မှတ်ကို Tantalum နှင့် Niobium ၏ လေဟာနယ် အရည်ပျော်မှုဖြင့် ဖန်တီးပါသည်။ ဤနှစ်ခုသည် မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ် (Tantalum 2996℃၊ Niobium 2468℃)၊ မြင့်မားသော ဆူမှတ် (Tantalum 5427℃၊ Niobium 5127℃) ရှားပါးသတ္တုများ ဖြစ်သည်။ Tantalum Niobium သတ္တုစပ်သည် သံမဏိနှင့် ဆင်တူသော အသွင်အပြင်ရှိပြီး၊ ၎င်းတွင် ငွေမှင်ရောင်တောက်တောက် (အမှုန့်သည် မီးခိုးရောင်ရှိသော်လည်း)။ ၎င်းတွင် ကောင်းမွန်သော ဂုဏ်သတ္တိများစွာ ရှိသည်- ချေးခံနိုင်ရည်၊ superconductivity နှင့် မြင့်မားသော အပူချိန် ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ ထို့ကြောင့် မည်သည့် အသုံးချပလီကေးရှင်းများ သို့မဟုတ် လုပ်ငန်းများတွင်မဆို Tantalum Niobium သတ္တုစပ်များဖြစ်သည့် အီလက်ထရွန်းနစ်၊ ဖန်နှင့် အလင်း၊ အာကာသယာဉ်၊ ဆေးဘက်ဆိုင်ရာ ကိရိယာ၊ လျှပ်ကူးနိုင်စွမ်းနှင့် သံမဏိစသည့် လျှပ်ကူးပစ္စည်းများကို အသုံးပြုခြင်းမှ အကျိုးကျေးဇူးရရှိနိုင်ပါသည်။

တန်တလမ် နှင့် နီအိုဘီယမ် တို့သည် ၎င်းတို့၏ အထင်ကြီးလောက်သော ခွန်အား၊ ချေးခံနိုင်ရည်နှင့် အခြားသော ဆွဲဆောင်မှုရှိသော အင်္ဂါရပ်များကြောင့် နှစ်ပေါင်းများစွာ အာကာသလုပ်ငန်းတွင် အရေးပါလာခဲ့ပြီး ဒုံးပျံအင်ဂျင်များနှင့် နော်ဇယ်များကဲ့သို့ အရေးကြီးသော အစိတ်အပိုင်းများစွာတွင် အသုံးပြုခဲ့သည်။

Tantalum Niobium Sputtering ပစ်မှတ်ထုပ်ပိုးမှု

ကျွန်ုပ်တို့၏ TaNb sputter ပစ်မှတ်ကို ထိရောက်စွာ ဖော်ထုတ်ခြင်းနှင့် အရည်အသွေးထိန်းချုပ်မှုသေချာစေရန်အတွက် ပြင်ပတွင် ပြတ်ပြတ်သားသား တံဆိပ်တပ်ထားသည်။ သိုလှောင်မှု သို့မဟုတ် သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးအတွင်း ဖြစ်ပေါ်လာနိုင်သည့် ပျက်စီးဆုံးရှုံးမှုမှန်သမျှကို ရှောင်ရှားရန် အထူးဂရုပြုပါသည်။

ဆက်သွယ်ရန်

RSM ၏ Tantalum Niobium sputtering ပစ်မှတ်များသည် အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုနှင့် တစ်ပြေးညီဖြစ်သည်။ ၎င်းတို့ကို ပုံစံအမျိုးမျိုး၊ သန့်ရှင်းမှု၊ အရွယ်အစားနှင့် ဈေးနှုန်းများဖြင့် ရရှိနိုင်ပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည် မှိုအပေါ်ယံပိုင်း၊ အလှဆင်ခြင်း၊ မော်တော်ကားအစိတ်အပိုင်းများ၊ Low-E glass၊ semi-conductor ပေါင်းစပ်ပတ်လမ်း၊ ပါးလွှာသောဖလင်များတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် အမြင့်ဆုံးသောသိပ်သည်းဆနှင့် အသေးငယ်ဆုံးဖြစ်နိုင်သော ပျမ်းမျှစပါးအရွယ်အစားများနှင့်အတူ သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ပါးလွှာသောဖလင်အပေါ်ယံပိုင်းပစ္စည်းများကို အထူးပြုထုတ်လုပ်ပါသည်။ ခံနိုင်ရည်၊ ဂရပ်ဖစ်ပြသမှု၊ အာကာသယာဉ်၊ သံလိုက်မှတ်တမ်းတင်မှု၊ ထိတွေ့မျက်နှာပြင်၊ ပါးလွှာသောဖလင်ဆိုလာဘက်ထရီနှင့်အခြားရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (PVD) အသုံးချပရိုဂရမ်များ။ sputtering ပစ်မှတ်များနှင့် စာရင်းမသွင်းထားသော အခြား အစစ်ခံပစ္စည်းများအတွက် လက်ရှိစျေးနှုန်းအတွက် စုံစမ်းမေးမြန်းရန် ကျွန်ုပ်တို့ထံ ပေးပို့ပါ။

ယခင်- NbTi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။

နောက်တစ်ခု: WRe Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားသည်။