လက်ကား NiTi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်တိုင်းကျ ထုတ်လုပ်သူ နှင့် ထုတ်လုပ်သူ

နီကယ် တိုက်တေနီယမ်

NiTi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသော အထူးအသားပေးပုံ

အတိုချုံးဖော်ပြချက်-

အမျိုးအစား	Alloy Sputtering ပစ်မှတ်
ဓာတုဖော်မြူလာ	နီတီ
ဖွဲ့စည်းမှု	နီကယ် တိုက်တေနီယမ်
သန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်း။	99.9%၊ 99.95%၊ 99.99%
ပုံသဏ္ဍာန်	ပန်းကန်များ၊ ကော်လံပစ်မှတ်များ၊ arc cathodes၊ စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်သည်။
ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်	ဖုန်စုပ်စက် အရည်ပျော်ခြင်း၊ PM
ရရှိနိုင်သောအရွယ်အစား	L≤200mm၊W≤200mm

ကျွန်ုပ်တို့ထံ အီးမေးလ်ပို့ပါ။

ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

ထုတ်ကုန်အမှတ်အသား

Nickel Titanium Sputtering Target ဖော်ပြချက်

Nickel Titanium Sputtering Target များကို Vacuum Melting နှင့် PM ဖြင့် ထုတ်လုပ်ပါသည်။ Martensite နှင့် Austenite တည်ဆောက်ပုံ နှစ်ခုစလုံးသည် အပူချိန်နှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဖိစီးမှုတို့ကြောင့် သတိပြုနိုင်သည်။
နီကယ်တိုက်တေနီယမ်သတ္တုစပ်သည် ပုံသဏ္ဍာန်မှတ်ဉာဏ်သတ္တုစပ် (SMA) မှတစ်ခုဖြစ်သည်။ SMA သည် အပူချိန်နိမ့်သော အပူချိန်တွင် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ပုံပျက်ခြင်းကို ခံရပ်ပြီးနောက် သင့်လျော်သော အပူ သို့မဟုတ် ဖိစီးမှု ထိတွေ့မှုမှတစ်ဆင့် ၎င်းတို့၏ မူလပုံစံကို ပြန်လည်ရရှိနိုင်ပါသည်။ SMA coatings များသည် အသုံးဝင်သော ဂုဏ်သတ္တိများစွာကို ပြသသည်- မှတ်ဉာဏ်အကျိုးသက်ရောက်မှု၊ အရိုးကျိုးခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ အလွန် elasticity၊ မြင့်မားသော ခွန်အားနှင့် ductility ကိုပြသသည်။ NiTi ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များ၏ထူးခြားသောအသွင်အပြင်ကြောင့်၊ Nickel Titanium Sputtering Targets သည် အရိုး၊ နှလုံးသွေးကြောနှင့် သွားတိုက်ဆေး၊ ခွဲစိတ်ကိရိယာများနှင့် အာရုံကြောခွဲစိတ်မှုဆိုင်ရာ လုပ်ငန်းများစွာတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုထားသည်။

နီကယ် တိုက်တေနီယမ် စပတာတင် ပစ်မှတ်ထုပ်ပိုးမှု

ကျွန်ုပ်တို့၏ နီကယ် တိုက်တေနီယမ် ရေပက်ပစ်မှတ်ကို ထိရောက်စွာ ဖော်ထုတ်ခြင်းနှင့် အရည်အသွေးထိန်းချုပ်မှု သေချာစေရန်အတွက် ပြင်ပတွင် ရှင်းလင်းစွာ တံဆိပ်တပ်ထားသည်။ သိုလှောင်မှု သို့မဟုတ် သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးအတွင်း ဖြစ်ပေါ်လာနိုင်သည့် ပျက်စီးဆုံးရှုံးမှုမှန်သမျှကို ရှောင်ရှားရန် အထူးဂရုပြုပါသည်။

နီကယ် တိုက်တေနီယမ် စပတာတင် ပစ်မှတ်ထုပ်ပိုးမှု

ဆက်သွယ်ရန်

RSM ၏ Nickel Titanium sputtering ပစ်မှတ်များသည် အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုနှင့် တစ်ပြေးညီဖြစ်သည်။ ၎င်းတို့ကို ပုံစံအမျိုးမျိုး၊ သန့်ရှင်းမှု၊ အရွယ်အစားနှင့် ဈေးနှုန်းများဖြင့် ရရှိနိုင်ပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည် မှိုအပေါ်ယံပိုင်း၊ အလှဆင်ခြင်း၊ မော်တော်ကားအစိတ်အပိုင်းများ၊ Low-E glass၊ semi-conductor ပေါင်းစပ်ပတ်လမ်း၊ ပါးလွှာသောဖလင်များတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် အမြင့်ဆုံးသောသိပ်သည်းဆနှင့် အသေးငယ်ဆုံးဖြစ်နိုင်သော ပျမ်းမျှစပါးအရွယ်အစားများနှင့်အတူ သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ပါးလွှာသောဖလင်အပေါ်ယံပိုင်းပစ္စည်းများကို အထူးပြုထုတ်လုပ်ပါသည်။ ခံနိုင်ရည်၊ ဂရပ်ဖစ်ပြသမှု၊ အာကာသယာဉ်၊ သံလိုက်မှတ်တမ်းတင်မှု၊ ထိတွေ့မျက်နှာပြင်၊ ပါးလွှာသောဖလင်ဆိုလာဘက်ထရီနှင့်အခြားရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (PVD) အသုံးချပရိုဂရမ်များ။ sputtering ပစ်မှတ်များနှင့် စာရင်းမသွင်းထားသော အခြား အစစ်ခံပစ္စည်းများအတွက် လက်ရှိစျေးနှုန်းအတွက် စုံစမ်းမေးမြန်းရန် ကျွန်ုပ်တို့ထံ ပေးပို့ပါ။

ယခင်- NiMo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားသည်။

နောက်တစ်ခု: NiTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားသည်။