သတ္တု sputtering ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၊ coating alloy sputtering coating material၊ ceramic sputtering coating material၊ boride ceramic sputtering target materials, carbide ceramic sputtering target material, fluoride ceramic sputtering target material, Nitride ceramic sputtering target materials, oxide ceramic target, Selenide ceramic sputtering target material၊ Silicide ceramic sputtering ပစ်မှတ်ပစ္စည်းများ၊ sulfide ceramic sputtering ပစ်မှတ်ပစ္စည်း၊ Telluride ceramic sputtering ပစ်မှတ်၊ အခြားကြွေထည်ပစ်မှတ်၊ ခရိုမီယမ်ရောင်ခြယ်ဆီလီကွန်အောက်ဆိုဒ် ကြွေထည်ပစ်မှတ် (CR-SiO)၊ အင်ဒီယမ်ဖော့စ်ဖိုက်ပစ်မှတ် (InP)၊ ခဲအာစင်နိုက်ပစ်မှတ် (PbAs)၊ အင်ဒီယမ်အာစင်နိုက်ပစ်မှတ် (InAs)။
မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှုနှင့် သိပ်သည်းဆမြင့်သော sputtering ပစ်မှတ်ပစ္စည်းများမှာ-
Sputtering ပစ်မှတ်ပစ္စည်း (သန့်စင်မှု- 99.9%-99.999%)
1. သတ္တုပစ်မှတ်-
နီကယ်ပစ်မှတ်၊ Ni၊ တိုက်တေနီယမ်ပစ်မှတ်၊ Ti၊ ဇင့်ပစ်မှတ်၊ Zn၊ ခရိုမီယမ်ပစ်မှတ်၊ Cr၊ မဂ္ဂနီဆီယမ်ပစ်မှတ်၊ Mg၊ Niobium ပစ်မှတ်၊ Nb၊ Tin ပစ်မှတ်၊ Sn၊ အလူမီနီယံပစ်မှတ်၊ အယ်လ်၊ အိန္ဒိယပစ်မှတ်၊ In၊ သံပစ်မှတ်၊ Fe၊ Zirconium အလူမီနီယမ်ပစ်မှတ်၊ ZrAl၊ တိုက်တေနီယမ် အလူမီနီယံပစ်မှတ်၊ TiAl၊ Zirconium ပစ်မှတ်၊ Zr၊ အလူမီနီယံ-ဆီလီကွန်ပစ်မှတ်၊ AlSi၊ ဆီလီကွန်ပစ်မှတ်၊ Si၊ ကြေးနီပစ်မှတ် Cu၊ တန်တလမ်ပစ်မှတ် T၊ A၊ Germanium ပစ်မှတ်၊ Ge၊ ငွေပစ်မှတ်၊ Ag၊ ကိုဘော့ပစ်မှတ်၊ Co၊ ရွှေပစ်မှတ်၊ Au၊ gadolinium ပစ်မှတ်၊ Gd၊ lanthanum ပစ်မှတ်၊ La၊ yttrium ပစ်မှတ်၊ Y၊ cerium ပစ်မှတ်၊ Ce၊ တန်စတင်ပစ်မှတ်၊ W ၊ သံမဏိပစ်မှတ်၊ နီကယ်-ခရိုမီယမ်ပစ်မှတ်၊ NiCr၊ hafnium ပစ်မှတ်၊ Hf၊ မိုလီဘဒင်နမ်ပစ်မှတ်၊ Mo၊ Fe-Ni ပစ်မှတ်၊ FeNi၊ tungsten ပစ်မှတ်၊ W စသည်ဖြင့်
2. ကြွေရည်မှန်းထားသောပစ္စည်း
ITO ပစ်မှတ်ပစ်မှတ်၊ ဖာရစ်အောက်ဆိုဒ်၊ မဂ္ဂနီဆီယမ်အောက်ဆိုဒ်ပစ်မှတ်၊ ပစ်မှတ်၊ ပစ်မှတ်၊ ပစ်မှတ်၊ ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ် တိုက်တေနီယမ်နိုက်ထရိတ်ပစ်မှတ် ပစ်မှတ်၊ ပစ်မှတ်၊ ဇင့်ဆာလိုက်ပစ်မှတ်၊ ဇင့်အောက်ဆိုဒ်၊ ခရိုမီယမ်အောက်ဆိုဒ်၊ ဆီလီကွန်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ်ပစ်မှတ်၊ ပစ်မှတ်၊ ဆီလီကွန်အောက်ဆိုဒ်ပစ်မှတ်၊ စီရီယမ်အောက်ဆိုဒ်ပစ်မှတ်၊ ပစ်မှတ်၊ ဇာကိုနီယမ်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ် အောက်ဆီဂျင်ငါးခု HuaEr နီအိုဘီယမ်ပစ်မှတ်၊ ပစ်မှတ်၊ တိုက်တေနီယမ်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ်၊ ဇာကွန်နီယမ်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ်၊ ဟက်ဖ်နီယမ်ပစ်မှတ်၊ ပစ်မှတ်၊ တိုက်တေနီယမ်ဒိုင်ဘိုရိုင်းဒိုင်ဘိုရိုင်းပစ်မှတ်၊ ဇင့်ဆီလီနိုက်ပစ်မှတ်၊ ပက်ထရီအောက်ဆိုဒ်ပစ်မှတ်၊ အလူမီနီယမ်ထရီအောက်ဆိုဒ်ပစ်မှတ် တန်တလမ်ပန်တာအောက်ဆိုဒ်၊ နီအိုဘီယမ်ပင်တာအောက်ဆိုဒ်ပစ်မှတ်၊ မဂ္ဂနီဆီယမ်ဖလိုရိုက်ပစ်မှတ်၊ yttrium ဖလိုရိုက်ပစ်မှတ်၊ ဇင့်ဆယ်လီနိုက်ပစ်မှတ်၊ အလူမီနီယံနိုက်ထရိတ်ပစ်မှတ်၊ ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်ပစ်မှတ်၊ ဘိုရွန်နိုက်ထရိတ်ပစ်မှတ်၊ နိုက်ထရိုက်ပစ်မှတ်၊ ဆီလီကွန်ကာဘိုင်ပစ်မှတ်၊ လီသီယမ် niobate ပစ်မှတ်၊ praseodymium titanate ပစ်မှတ်၊ barium titanate ပစ်မှတ်၊ lanthanum titanate ပစ်မှတ်၊ နီကယ်အောက်ဆိုဒ် ပစ်မှတ်၊ sputtering ပစ်မှတ် စသည်ဖြင့်
စာတိုက်အချိန်- သြဂုတ်-၀၅-၂၀၂၂