ကျွန်ုပ်တို့၏ဝဘ်ဆိုဒ်များမှကြိုဆိုပါသည်။

တိုက်တေနီယမ် အလူမီနီယံ အလွိုင်းပစ်မှတ် ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်နှင့် ပတ်သက်သော အသေးစိတ် ဗဟုသုတ များကား အဘယ်နည်း

လက်ရှိတွင်၊ ကမ္ဘာပေါ်တွင် အဓိကကျသည့် ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်သူများတွင် အလူမီနီယံအလွိုင်းပက်ဖျန်းခြင်းပစ်မှတ်ကို ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် မတူညီသောနည်းလမ်းနှစ်မျိုးရှိပါသည်။ တစ်ခုမှာ သတ္တုထုတ်လုပ်ရန် ပုံသွင်းနည်းကို ရွေးချယ်ပြီး သတ္တုထုတ်ခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်ကို ပြုလုပ်ရန်ဖြစ်သည်။ အခြားတစ်မျိုးကို မှုတ်ပုံသွင်းခြင်းဖြင့် ပြုလုပ်သည်။ ဘေဂျင်း အယ်ဒီတာက သင့်အတွက် မျှဝေခွင့်ပြုပါ၊ တိုက်တေနီယမ် အလူမီနီယံ အလွိုင်း၏ ထုတ်လုပ်မှု လုပ်ငန်းစဉ်နှင့် ပတ်သက်၍ ဘုံသဘောသည် အဘယ်နည်း။

https://www.rsmtarget.com/

အလူမီနီယမ်သတ္တုစပ်စပရိုက်ပစ်မှတ်ကို ထုတ်လုပ်သည့်အခါတွင် အလူမီနီယံသတ္တုစပ်စပရိုက်ပစ်မှတ်သည် အလွိုင်းဒြပ်စင်များ ပေါင်းထည့်ခြင်းကြောင့် မကြာခဏ ခွဲခြားခံရကာ ကွဲထွက်သွားသော ဖလင်နှင့် မိုက်ခရိုအမှုန်များ အရည်အသွေးညံ့ဖျင်းခြင်းတို့ကို ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။ sputtering ပစ်မှတ်၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ဖြစ်ပေါ်ရန် လွယ်ကူပြီး ဖလင်ဂုဏ်သတ္တိများ တူညီမှုကိုလည်း ထိခိုက်နိုင်သည်၊ သို့ရာတွင်၊ အလူမီနီယံ အလွိုင်း sputtering ပစ်မှတ်ကို ထုတ်လုပ်ရန် လူသိများသော spray forming method ကို အသုံးပြုပါက၊ အထက်ဖော်ပြပါ ဆက်စပ်ချို့ယွင်းချက်များကို တားဆီးနိုင်ပြီး၊ sputtering ပစ်မှတ်၏ ထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်သည် အလွန်တိုးတက်ကောင်းမွန်လာမည်ဖြစ်ပြီး အထူးသဖြင့် လောင်းချရလွယ်ကူသော မလွယ်ကူသော၊ အပူဖြင့်ဖိထားရမည်ဖြစ်ပြီး အချို့သော sputtering ပစ်မှတ်များကို ထုတ်လုပ်သည့်အခါတွင်၊ hot pressing ဖြင့် ကုန်ကျစရိတ်ကို မြှင့်တင်ပေးမည်ဖြစ်သည်။

တိုက်တေနီယမ် အလူမီနီယံအလွိုင်း၏ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်ကို ပိုမိုလွယ်ကူစေပြီး ကုန်ကျစရိတ်သက်သာစေရန်အတွက်၊ လေမှုတ်မှုန့်ဖြင့် အလူမီနီယံအလွိုင်း sputtering ပစ်မှတ်ကို ဤနေရာတွင် မိတ်ဆက်ပေးခဲ့သည်။ ၎င်း၏နိယာမအရ sputtering ပစ်မှတ်၏ ပစ္စည်းမှုန့်ကို သတ္တုစပ်ပါဝင်မှုအချိုးအရ လေဖြန်းနည်းဖြင့် ထုတ်လုပ်ထားပြီး သင့်လျော်သော အမှုန်အမွှားအရွယ်အစားကို ရရှိရန် သတ္တုစပ်အမှုန့်ကို စစ်ဆေးသည်။ နောက်ဆုံးတွင်၊ အမှုန့်သည် အလူမီနီယံအလွိုင်း sputtering ပစ်မှတ်ဖြစ်စေရန် ဖုန်စုပ်ပူဖြင့်ဖိထားသည်။

လေဖြန်းမှုန့်ဖြင့် အလူမီနီယမ်အလွိုင်းပက်ပစ်ပစ်မှတ်များကို ထုတ်လုပ်သည့်နည်းလမ်းကို အလူမီနီယမ်သတ္တုစပ်ဖြန်းပစ်မှတ်များ (လူမီနီယမ်ခရိုမီယမ်၊ အလူမီနီယမ်ဆီလီကွန်ကြေးနီ၊ အလူမီနီယမ် တိုက်တေနီယမ်စသည်ဖြင့်) ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် အသုံးပြုနိုင်ပါသည်။ ဦးစားပေးအကောင်အထည်ဖော်သည့်အဆင့်များမှာ- အလူမီနီယံအလွိုင်းပက်ပစ်ပစ်မှတ်များထုတ်လုပ်ရန်အတွက် သတ္တုပစ္စည်းများကို ထောက်ပံ့ပေးပြီး ၎င်းတို့ကို သတ္တုအရည်ပျော်အဖြစ် အရည်ပျော်စေခြင်း၊ ထို့နောက် သွန်းသောသတ္တုကို လေဖြန်းသည့်နည်းလမ်းဖြင့် သတ္တုမှုန့်အဖြစ်ပြုလုပ်သည်။ နောက်ဆုံးတွင်၊ သတ္တုမှုန့်ကို အလူမီနီယံအလွိုင်း sputtering ပစ်မှတ်ဖြစ်စေရန် လေဟာနယ်ပူဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားပြီး inert gas ကို ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုဓာတ်ငွေ့အဖြစ် မိတ်ဆက်ပေးသည်။ ဤနည်းလမ်းသည် ဒေတာခွဲခြားခြင်းနှင့် အသေးစားအမှုန်အမွှားချွတ်ယွင်းချက်များကို တားဆီးနိုင်ပြီး အရည်အသွေးမြင့် sputtering ပစ်မှတ်များကို ပိုမိုလျင်မြန်ပြီး ဈေးပေါပေါဖြင့် ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။


စာတိုက်အချိန်- ဇွန်- ၀၁-၂၀၂၂