ပဉ္စမအကြိမ်မြောက် Guangdong Hong Kong Macao ဖုန်စုပ်နည်းပညာ ဆန်းသစ်တီထွင်မှုနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးဖိုရမ်ကို အောင်မြင်စွာ ကျင်းပနိုင်ခဲ့ပါသည်။

နိုဝင်ဘာ ၁၈ ရက်မှ ၂၁ ရက်အထိ၊ ပဉ္စမအကြိမ်မြောက် Guangdong Hong Kong Macao လေဟာနယ်နည်းပညာ ဆန်းသစ်တီထွင်မှုနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုဖိုရမ်ကို Zengcheng၊ Guangdong တွင် “ပစ္စည်းသစ်၊ စွမ်းအင်သစ်၊ အခွင့်အလမ်းသစ်များ” ခေါင်းစဉ်ဖြင့် ကျင်းပခဲ့သည်။ ကျွမ်းကျင်သူခေါင်းဆောင် ၃၀၀ ကျော်၊ ပညာရပ်ဆိုင်ရာအဖွဲ့အစည်း 10 ခုနှင့် နာနိုနည်းပညာစက်မှုလုပ်ငန်း 30 တို့သည် ပြည်နယ်အစိုးရအရာရှိများ၊ သိပ္ပံနှင့်နည်းပညာဆိုင်ရာအသင်းမှ သုတေသီများနှင့် China Academy of Sciences မှ သုတေသီများ အပါအဝင် ပညာရှင်အဖွဲ့ 30 ကျော် တက်ရောက်ခဲ့ပါသည်။

Tsinghua University၊ Nanjing University၊ Southern University of Science and Technology နှင့် အခြားသော တက္ကသိုလ်များနှင့် သုတေသနဌာနများမှ ပါမောက္ခများသည် “ဖုန်စုပ်စက်နှင့် နည်းပညာ”၊ “ဖုန်စုပ်စက်နှင့် နည်းပညာ”၊ “ဓါတ်ပုံလျှပ်စစ်လုပ်ငန်းသုံး ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်များနှင့် စက်ကိရိယာများ” နှင့် “ခံနိုင်ရည်အား မြင့်မားစွာ ခံနိုင်ရည်ရှိမှု မြင့်မားသည် coating and surface engineering" သည် နောက်ဆုံးပေါ် သိပ္ပံနည်းကျ သုတေသနနှင့် နည်းပညာများကို ထိုးထွင်းသိမြင်နိုင်သည့်အပြင် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုကို မြှင့်တင်ပေးသည့်၊ Vacuum Coating Industry တွင် တီထွင်ဆန်းသစ်မှုများနှင့် နည်းပညာများ။

အစီရင်ခံစာများတွင်-
"ပစ်မှတ်များနှင့် sputtered ရုပ်ရှင်များ၏စက်မှုလုပ်ငန်းအတွင်းအခွင့်အလမ်းအသစ်များ၊ စိန်ခေါ်မှုများနှင့်နည်းပညာဆိုင်ရာပြောင်းလဲမှုများ၏ခြုံငုံသုံးသပ်ချက်"
"လေကြောင်းအာကာသစက်မှုလုပ်ငန်းအတွက် PVD Coating ၏နည်းပညာဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှု"
"လီသီယမ်ဘက်ထရီများ၏ အခွင့်အလမ်းများနှင့် စိန်ခေါ်မှုများ"
"မိုက်ခရို/နာနို ထုတ်လုပ်မှုနှင့် အသုံးချမှု"
"CVD နှင့် ဓာတုစိန်များ"
“အရုပ်များနှင့် ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်များ”
"ပါးလွှာသော၊ နာနိုနှင့် အလွန်ပါးလွှာသော ရုပ်ရှင်နည်းပညာများ"
"မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ်နှင့် နာနိုအီလက်ထရောနစ်စက်စနစ်များ"
"အီလက်ထရွန်းနစ်နှင့် ပုံသဏ္ဍာန်ပစ္စည်းများ၏ စီမံဆောင်ရွက်မှုနည်းလမ်း"
"တိကျသောတူရိယာနှင့် အလွန်တိကျသော တူရိယာထုတ်လုပ်ရေးနည်းလမ်းများ"
"Turbo Molecular Pump ၏နောက်ဆုံးပေါ်နည်းပညာတိုးတက်မှုများ"
"ပလာစမာသိပ္ပံနှင့်နည်းပညာ"

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများမှ ကိုယ်စားလှယ် သုံးဦးအား ဖုန်စုပ်စက်တွင် ကျွမ်းကျင်သူများအဖြစ် ဖိတ်ကြားပြီး အစည်းအဝေးတွင် ပါဝင်ခဲ့သည်။ ၎င်းတို့သည် မကြာသေးမီက R&D လုပ်ဆောင်ချက်များနှင့် sputtering လုပ်ငန်းစဉ်တွင် နောက်ဆုံးပေါ်တိုးတက်မှုများအကြောင်း အခြားကျွမ်းကျင်သူများ၊ စွန့်ဦးတီထွင်သူများ၊ သုတေသီများနှင့် အပြန်အလှန် တုံ့ပြန်ခဲ့ကြသည်။ ဤသည်မှာ ကျွန်ုပ်တို့၏ ပထမဆုံးလက်တွေ့သတင်းအချက်အလတ်များကို ထိတွေ့ခွင့်ရရန်၊ ကျွန်ုပ်တို့၏နည်းပညာဆိုင်ရာ ယှဉ်ပြိုင်နိုင်စွမ်းကို အားကောင်းလာစေရန်နှင့် ပူးပေါင်းဆောင်ရွက်မှုနှင့် စီးပွားရေးအခွင့်အလမ်းများကို ရှာဖွေရန် အခွင့်အလမ်းကောင်းဖြစ်ပါသည်။