ပစ်မှတ်သည် အီလက်ထရွန်နစ် သတင်းလုပ်ငန်းတွင် အသုံးများသော ပစ္စည်းတစ်မျိုးဖြစ်သည်။ အသုံးပြုမှု ကျယ်ပြန့်ပေမယ့် သာမန်လူတွေက ဒီပစ္စည်းအကြောင်း သိပ်မသိကြပါဘူး။ ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်မှုနည်းလမ်းကို လူတော်တော်များများ သိချင်နေကြပါသလား။ ထို့နောက် RSM နည်းပညာဌာနမှ ကျွမ်းကျင်သူများသည် ပစ်မှတ်၏ ကုန်ထုတ်လုပ်မှုနည်းလမ်းကို မိတ်ဆက်ပေးမည်ဖြစ်သည်။
ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်သည့်နည်းလမ်း
1. Casting နည်းလမ်း
သွန်းလုပ်နည်းမှာ သတ္တုစပ်ကုန်ကြမ်းများကို အချို့သောဖွဲ့စည်းမှုအချိုးတစ်ခုဖြင့် အရည်ပျော်ရန်ဖြစ်ပြီး မှိုထဲသို့ အရည်ပျော်ပြီးနောက် ရရှိသောအလွိုင်းအရည်ကို လောင်းထည့်ကာ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာလုပ်ဆောင်ပြီးနောက် ပစ်မှတ်ကို ပုံဖော်သည်။ သွန်းလုပ်နည်းကို ယေဘူယျအားဖြင့် အရည်ကျိုပြီး လေဟာနယ်တွင် ချရန် လိုအပ်သည်။ အသုံးများသော Casting နည်းလမ်းများတွင် Vacuum Induction အရည်ပျော်ခြင်း၊ Vacuum Arc အရည်ပျော်ခြင်းနှင့် Vacuum Electron Bombardment အရည်ပျော်ခြင်းတို့ ပါဝင်သည်။ ၎င်း၏ အားသာချက်များ မှာ ထုတ်လုပ်သည့် ပစ်မှတ်တွင် အညစ်အကြေး ပါဝင်မှု နည်းပါးပြီး၊ သိပ်သည်းဆ မြင့်မားပြီး အကြီးစား ထုတ်လုပ် နိုင်ခြင်းကြောင့် ဖြစ်သည်။ အားနည်းချက်မှာ အရည်ပျော်မှတ်နှင့် သိပ်သည်းဆ ကွာခြားချက်ကြီးမားသော သတ္တုနှစ်ခု သို့မဟုတ် ထို့ထက်ပို၍ အရည်ပျော်သောအခါ သမားရိုးကျ အရည်ပျော်နည်းဖြင့် တူညီသောဖွဲ့စည်းမှုဖြင့် အလွိုင်းပစ်မှတ်ကို ပြုလုပ်ရန် ခက်ခဲသည်။
2. အမှုန့်သတ္တုဗေဒနည်းလမ်း
အမှုန့်သတ္တုဗေဒနည်းမှာ သတ္တုစပ်ကုန်ကြမ်းများကို ပေါင်းစပ်အချိုးအစားဖြင့် အရည်ပျော်ရန်၊ ထို့နောက် အရည်ပျော်ပြီးနောက် ရရှိသော အလွိုင်းပျော်ရည်ကို သတ္တုစပ်များအဖြစ်သို့ လောင်းချကာ သတ္တုစပ်အမှုန့်များကို ပုံသဏ္ဍာန်ဖြစ်အောင် ဖိကာ ပစ်မှတ်များကို ပုံဖော်ရန်အတွက် မြင့်မားသော အပူချိန်ဖြင့် သန့်စင်စေပါသည်။ ဤနည်းဖြင့်ပြုလုပ်သောပစ်မှတ်သည် ယူနီဖောင်းဖွဲ့စည်းမှု၏အားသာချက်များရှိသည်။ အားနည်းချက်များမှာ သိပ်သည်းဆနည်းပြီး ညစ်ညမ်းမှု မြင့်မားသည်။ အသုံးများသော အမှုန့်သတ္တုဗေဒလုပ်ငန်းတွင် အအေးဖိခြင်း၊ လေဟာနယ်ပူခြင်း နှင့် hot isostatic pressing ပါဝင်သည်။
စာတိုက်အချိန်- သြဂုတ်-၁၅-၂၀၂၂