အခုခေတ်မှာ mObile ဖုန်းများသည် အများသူငှာ မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အရာတစ်ခုဖြစ်လာပြီး မိုဘိုင်းလ်ဖုန်း display များသည် ပို၍ အဆင့်မြင့်လာပါသည်။ ပြီးပြည့်စုံသော မျက်နှာပြင်ဒီဇိုင်းနှင့် သေးငယ်သော ပေါက်ကွဲသံများ ဒီဇိုင်းသည် မိုဘိုင်းလ်ဖုန်း LCD ပြုလုပ်ရာတွင် အရေးကြီးသော ခြေလှမ်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ အဲဒါက ဘာလဲဆိုတာ သင်သိပါသလား — Coating − သတ္တု molybdenum မှ molybdenum ပစ်မှတ်မှ အရည်ပုံဆောင်ခဲမှန်သို့ သတ္တု molybdenum ကို ဖြန်းရန် magnetron sputtering နည်းပညာကို အသုံးပြုပါ။ဒီမှာ ခဖင်၊ဤဆောင်ပါး တိကျတဲ့ မိတ်ဆက်စကား ပေးပါလိမ့်မယ်။
Sputtering သည် ပါးလွှာသော ဖလင်ဒေတာများကို ပြင်ဆင်ရန်အတွက် အဆင့်မြင့်နည်းပညာတစ်ခုအနေဖြင့် "မြန်နှုန်းမြင့်" နှင့် "အပူချိန်နိမ့်" ၏ လက္ခဏာနှစ်ရပ်ရှိသည်။ ၎င်းသည် လေဟာနယ်တွင် မြန်နှုန်းမြင့် အိုင်းယွန်းစီးဆင်းမှုကို အရှိန်မြှင့်ရန်၊ အိုင်းယွန်းရင်းမြစ်မှ ထွက်လာသော အိုင်းယွန်းများကို အသုံးပြုကာ အစိုင်အခဲမျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အက်တမ်များနှင့် အိုင်းယွန်းစွမ်းအင်များ ဖလှယ်ရန်၊ ထို့ကြောင့် အစိုင်အခဲပေါ်ရှိ အက်တမ်များကို ပေါင်းစပ်ခြင်း၊ မျက်နှာပြင်သည် ပစ်မှတ်ကို ချန်ထားပြီး အလွှာ၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အပ်နှံပြီးနောက် နာနို (သို့မဟုတ်) မိုက်ခရိုဖလင်ကို ဖန်တီးပါ။ အခွံပါသောအစိုင်အခဲများသည် sputtering ပစ်မှတ်ဟုခေါ်သော sputtering ဖြင့်စုဆောင်းထားသောပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များ၏အချက်အလက်များဖြစ်သည်။
အီလက်ထရွန်းနစ်စက်မှုလုပ်ငန်းတွင်၊ မော်လီဘဒင်နမ်စပတာပစ်မှတ်များကို ပြားချပ်ချပ်ပြသမှုများ၊ ပါးလွှာသောဆိုလာဆဲလ်များ၏လျှပ်ကူးပစ္စည်းနှင့် ဝါယာကြိုးပစ္စည်းများနှင့် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာများ၏ အတားအဆီးပစ္စည်းများအတွက် အဓိကအသုံးပြုကြသည်။
၎င်းတို့သည် မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ်၊ လျှပ်ကူးနိုင်စွမ်း မြင့်မားမှု၊ တိကျသော impedance နည်းပါးမှု၊ ကောင်းမွန်သော သံချေးတက်မှုနှင့် မိုလီဘဒင်မ်၏ ပတ်ဝန်းကျင် ကာကွယ်ရေး လုပ်ဆောင်မှု ကောင်းမွန်မှုအပေါ် အခြေခံထားသည်။
ယခင်က၊ flat panel display ၏ wiring data သည် အဓိကအားဖြင့် chromium ဖြစ်သည်၊ သို့သော် flat panel display ၏ ကြီးမားပြီး တိကျမှုမြင့်မားသောကြောင့်၊ impedance ထက်သေးငယ်သော data သည် ပို၍လိုအပ်လာသည်။ ထို့အပြင် သဘာဝပတ်ဝန်းကျင် ထိန်းသိမ်းရေးကိုလည်း ထည့်သွင်းစဉ်းစားရန် လိုအပ်ပါသည်။ Molybdenum သည် သီးခြား impedance နှင့် film stress သည် chromium ၏ 1/2 သာရှိပြီး ပတ်ဝန်းကျင်ညစ်ညမ်းမှု ပြဿနာမရှိသောကြောင့် ၎င်းသည် flat panel display အတွက် sputtering target ၏ ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်လာသည်။
ထို့အပြင် LCD အစိတ်အပိုင်းများတွင် molybdenum ကိုအသုံးပြုခြင်းသည် တောက်ပမှု၊ ဆန့်ကျင်ဘက်၊ အရောင်နှင့် ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းတို့တွင် LCD ၏လုပ်ဆောင်ချက်များကို များစွာတိုးတက်စေနိုင်သည်။ TFT-LCD သည် ပြားချပ်ချပ် မျက်နှာပြင် မျက်နှာပြင်စက်မှုလုပ်ငန်းတွင် မိုလီဘဒင်နမ် sputtering ပစ်မှတ်၏ အရေးကြီးဆုံး application တစ်ခုဖြစ်သည်။
စျေးကွက်သုတေသနပြုချက်အရ လာမည့်နှစ်အနည်းငယ်အတွင်း LCD ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှု၏ အထွတ်အထိပ်ဖြစ်လာမည်ဖြစ်ပြီး နှစ်စဉ်တိုးတက်မှုနှုန်းမှာ 30% ရှိကြောင်း သိရသည်။ LCD ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့်အတူ၊ LCD sputtering ပစ်မှတ်သုံးစွဲမှုသည်လည်း တစ်နှစ်တာ တိုးတက်မှုနှုန်း 20% ဖြင့် လျင်မြန်စွာ ကြီးထွားလာသည်။
ပြားချပ်ချပ်ပြသခြင်းလုပ်ငန်းအပြင်၊ စွမ်းအင်ဆိုင်ရာလုပ်ငန်းအသစ်များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်လာမှုနှင့်အတူ၊ ပါးလွှာသောဖလင်ဆိုလာဓာတ်ပုံဗိုတယ်ဆဲလ်များတွင် မိုလီဘဒင်နမ် sputtering ပစ်မှတ်ကို အသုံးချမှုမှာလည်း တိုးလာပါသည်။
molybdenum sputtering ပစ်မှတ်ကို CIGS (copper indium gallium selenium) ပါးလွှာသော ဖလင်ဘက်ထရီ၏ လျှပ်ကူးပစ္စည်းအလွှာအဖြစ် အဓိကထား၍ sputter လုပ်ပါသည်။ မိုသည် ဆိုလာဆဲလ်၏ အောက်ခြေတွင်ရှိသည်။ ဆိုလာဆဲလ်၏ နောက်ကျောကို ထိတွေ့သကဲ့သို့၊ ၎င်းသည် CIGS ပါးလွှာသော ဖလင်ပုံဆောင်ခဲများ၏ အနုအရင့်၊ ကြီးထွားမှုနှင့် ဖော်ပြချက်တွင် အလွန်အရေးကြီးသော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။
စာတိုက်အချိန်- မေလ-၁၀-၂၀၂၂