MoNb Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။

Molybdenum Niobium ပစ်မှတ်များကို Molybdenum နှင့် Niobium အမှုန့်များ ရောစပ်ပြီး သိပ်သည်းဆပြည့်စေရန် ပေါင်းစပ်ခြင်းဖြင့် ပြင်ဆင်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် ကျစ်ကျစ်လျစ်လျစ်ထားသော ပစ္စည်းများကို စိတ်ကြိုက်ရွေးချယ်ကာ သန့်စင်ပြီး လိုချင်သော ပစ်မှတ်ပုံသဏ္ဍာန်အဖြစ် ဖွဲ့စည်းထားသည်။
Molybdenum Niobium sputtering ပစ်မှတ်သည် မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် အရည်ပျော်မှတ်၊ ခိုင်ခံ့မှုနှင့် ခိုင်ခံ့မှုရှိသည်။ ၎င်းသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူနှင့်လျှပ်စစ်စီးကူးမှုကိုလည်း ပြသထားပြီး အပူချဲ့ထွင်ခြင်း၏ ဖော်ကိန်းနည်းပါးသည်။ Molybdenum ထဲသို့ Niobium ပေါင်းထည့်ခြင်းသည် အရည်-သလင်းပြင်ပြကွက် pixel ကို အနည်းဆုံး သုံးဆ တိုးတက်စေသည်။

Molybdenum Niobium sputtering ပစ်မှတ်များသည် Flat Panel Display (FPD) အတွက် အရေးပါသောပစ္စည်းများဖြစ်ပြီး Liquid Crystal Display (LCD) အရင်းအမြစ် cuboid အရည်ပုံဆောင်ခဲပြကွက်၊ အကွက်ထုတ်လွှတ်မှုပြကွက်၊ အော်ဂဲနစ်အလင်းထုတ်လွှတ်သည့်မျက်နှာပြင်၊ ပလာစမာအတွက် မိုလီဘဒင်နမ်-နီအိုဘီယမ်သတ္တုစပ်များတွင် အများအပြားအသုံးပြုကြသည်။ ဖန်သားပြင်များ ၊ cathodoluminescence display ၊ vacuum fluorescent display ၊ TFT ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိသော display နှင့် touch screen စသည်တို့ ဖန်သားပြင်ပြသမှုလုပ်ငန်းစဉ်များ၏ အီလက်ထရွန်အလင်းတန်းများ အငွေ့ပျံခြင်းသည် ထုတ်လွှတ်မှု၏ထိပ်စွန်းတွင် နီအိုဘီယမ်သိုက်ကို ဖြစ်စေနိုင်ပြီး၊ ၎င်းသည် ကြီးမားသော ကြည်လင်ပြတ်သားသည့် ဖန်သားပြင်များကို ဖန်တီးရာတွင် များစွာအထောက်အကူဖြစ်စေမည်ဖြစ်သည်။

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများသည် Sputtering ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အထူးပြုပြီး ဖောက်သည်များ၏ သတ်မှတ်ချက်များအရ Molybdenum Niobium Sputtering Materials ကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။