CrW Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားသည်။

ပစ်မှတ်များကို Chronium နှင့် Tungsten အမှုန့်များ ရောစပ်ခြင်း သို့မဟုတ် လေဟာနယ် အရည်ပျော်ခြင်း အပြီးတွင် ကျစ်လစ်သိပ်သည်းမှု အပြည့်ရှိစေရန် ပြင်ဆင်ထားခြင်းဖြစ်သည်။ ထို့ကြောင့် ကျစ်ကျစ်လျစ်လျစ်ထားသော ပစ္စည်းများကို စိတ်ကြိုက်ရွေးချယ်ကာ သန့်စင်ပြီး လိုချင်သော ပစ်မှတ်ပုံသဏ္ဍာန်အဖြစ် ဖွဲ့စည်းထားသည်။

Chrome Tungsten sputtering ပစ်မှတ်သည် မြင့်မားသော သန့်စင်မှု၊ တစ်သားတည်းကျသော အဏုဖွဲ့စည်းပုံ၊ မြင့်မားသော သိပ်သည်းဆနှင့် ကောင်းမွန်သော စပါးအရွယ်အစား ပါဝင်သည်။ ၎င်းကို HIP ဖြင့် အရွယ်အစားကြီးကြီးဖြစ်အောင် ဖန်တီးနိုင်သည်။ Cr-W coating သည် ၎င်း၏ ချေးခံနိုင်ရည်၊ မာကျောမှု၊ dielectric strength နှင့် အနိမ့်ဆုံး ခုတ်ထစ်နေသော ရေစီးကြောင်းများကြောင့် စက်မှုလုပ်ငန်းနှင့် အသုံးချပရိုဂရမ်များစွာအတွက် ပြီးပြည့်စုံပါသည်။

Rich Special Materials သည် ဖောက်သည်များ၏ သတ်မှတ်ချက်များအရ Chronium Tungsten Sputtering Materials ကို ထုတ်လုပ်သည့် Sputtering Target ၏ ထုတ်လုပ်သူဖြစ်သည်။ ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။