လက်ကား CrNi Alloy Sputtering ပစ်မှတ် High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်တိုင်းကျ ထုတ်လုပ်သူ နှင့် ထုတ်လုပ်သူ

ခရိုမီယမ် နီကယ်

CrNi Alloy Sputtering ပစ်မှတ်သည် မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှုရှိသော ပါးလွှာသောဖလင် Pvd အပေါ်ယံပိုင်းကို စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည့် အထူးအသားပေးပုံ

အတိုချုံးဖော်ပြချက်-

အမျိုးအစား	Alloy Sputtering ပစ်မှတ်
ဓာတုဖော်မြူလာ	CrNi
ဖွဲ့စည်းမှု	ခရိုမီယမ် နီကယ်
သန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်း။	99.9%၊ 99.95%၊ 99.99%
ပုံသဏ္ဍာန်	ပန်းကန်များ၊ ကော်လံပစ်မှတ်များ၊ arc cathodes၊ စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်သည်။
ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်	ဖုန်စုပ်စက် အရည်ပျော်ခြင်း။
ရရှိနိုင်သောအရွယ်အစား	L≤4000mm၊W≤350mm

ကျွန်ုပ်တို့ထံ အီးမေးလ်ပို့ပါ။

ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

ထုတ်ကုန်အမှတ်အသား

ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်ခြင်းနှင့် သံချေးတက်ခြင်းတို့ကို ခံနိုင်ရည်ကောင်းမွန်သော စွမ်းဆောင်ရည်ဖြင့် CrNi အလွိုင်း sputtering ပစ်မှတ် ၎င်းအား Low-E glass၊ micro-electronics၊ magnetic recording၊ semiconductor နှင့် thin film resistor ကဲ့သို့သော စက်မှုလုပ်ငန်းဆိုင်ရာ applications အများအပြားတွင် အကျယ်တဝင့် အသုံးပြုပါသည်။

Chronium Nickel Sputtering Target ကို မော်တော်ကားမှန်ပေါ်မှ ရောင်ပြန်ဟပ်မှုကို လျှော့ချရန်၊ အလင်းပို့လွှတ်မှုကို တိုးမြှင့်ရန်နှင့် တစ္ဆေပုံပြဿနာကို ဖြေရှင်းရန်အတွက် မော်တော်ကားမှန်အပေါ်ယံအလွှာအပါအဝင် ဖန်သားပြင်လုပ်ငန်းတွင် တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုပါသည်။ ထို့အပြင် PVD coating သည် အိုမင်းမှုနှုန်းကို နှေးကွေးစေပြီး ထုတ်ကုန်များ၏ အသုံးဝင်သောသက်တမ်းကို တိုးမြှင့်ပေးနိုင်သည်။

Low-E (သို့) ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်မှုနည်းသောဖန်ခွက်သည် သင့်အိမ်မှဝင်ရောက်လာသောအလင်းပမာဏကို လျော့နည်းစေခြင်းမရှိဘဲ သင့်ဖန်ခွက်မှတစ်ဆင့်လာသော အနီအောက်ရောင်ခြည်နှင့် ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည်ပမာဏကို လျှော့ချရန် ဖန်တီးထားသည်။ Low-E မှန်ပြတင်းပေါက်များသည် ပွင့်လင်းမြင်သာပြီး အပူရောင်ပြန်ဟပ်သည့် ပါးလွှာသောအလွှာများပါရှိပြီး အတွင်းပိုင်းအပူချိန်ကို ပြန်ရောင်ပြန်ဟပ်ခြင်းဖြင့် အပူချိန်ကို တသမတ်တည်းဖြစ်စေသည်။ Chronium Nickel သည် ဓာတ်တိုးဆန့်ကျင်ပစ္စည်း နှင့် သံချေးတက်ခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိသော အလွှာအဖြစ် လုပ်ဆောင်ရန် အပြင်ဘက်တွင် မကြာခဏ စုဆောင်းထားသည်။

Chronium Nickel alloy မှ ထုတ်လုပ်သော ပါးလွှာသော ဖလင် ခံနိုင်ရည်အား အားသာချက်များစွာ ရှိသည်- Resistivity မြင့်မားသော၊ low Temperature Coefficient နှင့် Sensitivity မြင့်မားပြီး Resistance Strain Gauge အပါအဝင် မတူညီသော လုပ်ငန်းများတွင် တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုပါသည်။

Pဆီးသွားခြင်း	Cဆန့်ကျင်မှု(wt%)	Iညစ်ညမ်းမှု (ppm) ≤							Tသတ္တုညစ်ညမ်းမှု (ppm)
	Cr	Fe	Al	Si	C	N	O	S
9၉.၅	20±1.0	2၅၀၀	1၀၀၀	1၅၀၀	150	100	၂၀၀	100	≤5၀၀၀
9၉.၇	20±1.0	1၅၀၀	800	1၀၀၀	150	100	၂၀၀	100	≤3000
9၉.၈	20±1.0	1၂၀၀	300	600	150	100	၂၀၀	100	≤2၀၀၀
9၉.၉	20±1.0	600	200	500	100	100	၂၀၀	50	≤1၀၀၀
9၉.၉၅	20±1.0	200	100	200	100	100	၂၀၀	50	≤500

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများသည် Chronium Nickel Alloy အတွက် နက်ရှိုင်းစွာ သုတေသနပြုလုပ်ခဲ့သည်။၊Chronium ပါဝင်မှုကို 5% မှ 80% အထိ ပံ့ပိုးပေးနိုင်ပါသည်။ ပုံမှန်ဖွဲ့စည်းမှု- Ni-5Cr wt%, Ni-7Cr wt%, Ni-20Cr at%, Ni-20Cr wt%, Ni-30Cr wt%, Ni-40Cr at%, Ni-40Cr wt%, Ni-44Cr wt% ၊ Ni-50Cr wt%, Ni-60Cr wt%, နှင့် ကျွန်ုပ်တို့သည် မတူညီသော သန့်စင်မှုများကို ပံ့ပိုးပေးနိုင်သည် 99.5%, 99.7%, 99.8%, 99.9%, 99.95% ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များကို မြောက်အမေရိက၊ ဥရောပ၊ ဂျပန်၊ ကိုရီးယား၊ တောင်အာရှနှင့် ထိုင်ဝမ်တို့တွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်ရောင်းချနေပြီး မတူညီသောစက်မှုလုပ်ငန်းကြီးများတွင် အသုံးပြုသည်- ကြီးမားသောဧရိယာ Glass၊ အလိုအလျောက်၊ ခုခံမှု၊ သံလိုက်ဓာတ်ဖမ်းခြင်းနှင့် ပေါင်းစပ်ပတ်လမ်း PVD အပေါ်ယံပိုင်း

ယခင်- CrAlW Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။

နောက်တစ်ခု: CrTi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating ကို စိတ်တိုင်းကျ ပြုလုပ်ထားသည်။