AlZn Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။

၎င်း၏ တိကျသော ဆွဲငင်အား မြင့်မားမှုကြောင့် သေးငယ်သော အစိတ်အပိုင်း အများအပြားကို သေစေရန် သွပ်ပုံစံသန့်သန့်များကို အသုံးပြုလေ့ရှိသော်လည်း၊ ၎င်းကို သံမဏိထက် ခံနိုင်ရည် ၅၀ ရာခိုင်နှုန်းအထိ နည်းသော သတ္တုတစ်မျိုးဟု ယူဆသောကြောင့် ၎င်းကို အခြားအမျိုးအစားများစွာအတွက် မနှစ်သက်ပါ။ . ဇင့်၏ အနုတ်လက္ခဏာဂုဏ်သတ္တိများကို လျှော့ချရန်အတွက် ၎င်းသည် ဆန့်နိုင်အားနည်းခြင်းနှင့် ကြွပ်ဆတ်ခြင်းကဲ့သို့၊ ၎င်းကို အလူမီနီယံ ရာခိုင်နှုန်းအချို့နှင့် မကြာခဏ ပေါင်းစပ်ထားသည်။ AlZn သတ္တုစပ်သည် ကောင်းမွန်သော ခိုင်ခံ့မှု၊ မာကျောမှု၊ ဝက်ဝံ၊ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ စိုစွတ်စေသည့် ဂုဏ်သတ္တိများနှင့် ပုံသွင်းခြင်းဆိုင်ရာ စွမ်းဆောင်ရည်တို့ကို ပြသထားပြီး ဝက်ဝံ၊ သေဆုံးပုံသွန်း၊ ရေနံနှင့်ဓာတ်ငွေ့၊ အာကာသယာဉ်နှင့် တာဘိုင်အပါအဝင် စက်မှုလုပ်ငန်းအမျိုးမျိုးတွင် တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုလျက်ရှိသည်။

Aluminum-doped zinc oxide (AZO) ပါးလွှာသော ဖလင်တစ်ခုသည် အလူမီနီယမ် ဇင့်ဖျန်းခြင်း ပစ်မှတ်၏ အစစ်ခံခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်တွင် ဖြစ်ပေါ်လာနိုင်သည်။ Low-E glass၊ touch panel, LCD လုပ်ငန်းများတွင် အသုံးပြုသည်။ အလူမီနီယမ် ဇင့်ပစ်မှတ်သည် ကြီးမားသောအရွယ်အစားအတွက် ၎င်း၏ရရှိနိုင်မှုအတွက် ကြွေထည်ပစ်မှတ်နှင့် နှိုင်းယှဉ်လျှင် ကြီးမားသောအားသာချက်တစ်ခုရှိသည်။

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများသည် Sputtering ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အထူးပြုပြီး Customer များ၏ သတ်မှတ်ချက်များအရ အလူမီနီယမ် ဇင့် Sputtering Materials ကို ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ၊ တစ်သားတည်းကျသောဖွဲ့စည်းပုံ၊ ခွဲခြားထားခြင်းမရှိဘဲ ပွတ်တိုက်သောမျက်နှာပြင်၊ ချွေးပေါက်များ သို့မဟုတ် အက်ကွဲကြောင်းများပါရှိသည်။ ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။