AlTi အလွိုင်း Sputtering ပစ်မှတ် မြင့်မားသော သန့်ရှင်းမှု

sputter coating အတွက် ပစ်မှတ်အရည်အသွေး လိုအပ်ချက်သည် သမားရိုးကျ ပစ္စည်းများ လုပ်ငန်းထက် ပိုမိုမြင့်မားသည်။ ပစ်မှတ်၏တူညီသောသေးငယ်သောဖွဲ့စည်းပုံသည် sputtering စွမ်းဆောင်ရည်ကိုတိုက်ရိုက်အကျိုးသက်ရောက်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့တွင် ပြီးပြည့်စုံသော အရည်အသွေးစီမံခန့်ခွဲမှုစနစ်ရှိပြီး ကျွန်ုပ်တို့သည် မြင့်မားသောသန့်ရှင်းသောကုန်ကြမ်းများကို ရွေးချယ်ကာ တစ်သားတည်းဖြစ်တည်မှုကို သေချာစေရန် နှိုက်နှိုက်ချွတ်ချွတ် ရောစပ်ထားသည်။ အလူမီနီယမ် တိုက်တေနီယမ် အလွိုင်းပစ်မှတ်ကို ဖုန်စုပ်ပူဖြင့် နှိပ်သည့်နည်းလမ်းဖြင့် ထုတ်လုပ်သည်။

ကျွန်ုပ်တို့၏ အလူမီနီယမ် တိုက်တေနီယမ် ဖြန်းပစ်ပစ်မှတ်များသည် ထူးထူးခြားခြား ဓာတ်တိုးဒဏ်ခံနိုင်သော နိုက်ထရိတ်အပေါ်ယံပိုင်းဖြစ်သော တိုက်တေနီယမ် အလူမီနီယမ်နိုက်ထရိတ် (TiAlN) ကို ပေးစွမ်းနိုင်သည်။ TiAlN သည် ဖြတ်တောက်သည့်ကိရိယာများ၊ လျှောအစိတ်အပိုင်းများနှင့် tribo-coatings များအတွက် ရုပ်ရှင်အဖြစ် လက်ရှိပင်မရေစီးကြောင်းဖြစ်သည်။ ၎င်းတွင် မြင့်မားသော မာကျောမှု၊ မာကျောမှု၊ ဝတ်ဆင်မှု ခံနိုင်ရည်ရှိမှုနှင့် ဓာတ်တိုးမှု အပူချိန်တို့ ပါဝင်သည်။