လက်ကား AlSnCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်တိုင်းကျ ထုတ်လုပ်သူ နှင့် ထုတ်လုပ်သူ

အလူမီနီယံ ကြေးနီ

AlSnCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသော အထူးအသားပေးပုံ

အတိုချုံးဖော်ပြချက်-

အမျိုးအစား	Alloy Sputtering ပစ်မှတ်
ဓာတုဖော်မြူလာ	AlSnCu
ဖွဲ့စည်းမှု	အလူမီနီယမ် သံဖြူ ကြေးနီ
သန့်ရှင်းစင်ကြယ်ခြင်း။	99.7%၊99.9%၊99.95%၊99.99%
ပုံသဏ္ဍာန်	ပန်းကန်များ၊ ကော်လံပစ်မှတ်များ၊ arc cathodes၊ စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်သည်။
ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်	ဖုန်စုပ်စက် အရည်ပျော်ခြင်း၊ PM
ရရှိနိုင်သောအရွယ်အစား	L≤2000mm၊W≤200mm

ကျွန်ုပ်တို့ထံ အီးမေးလ်ပို့ပါ။

ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

ထုတ်ကုန်အမှတ်အသား

ဗီဒီယို

Aluminum Tin Copper Sputtering Target ဖော်ပြချက်

Aluminum Tin Copper sputtering ပစ်မှတ်များကို အင်ဂျင်အပေါ်ယံပိုင်းအတွက် အသုံးပြုလေ့ရှိပြီး လှိမ့်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ဖြင့် ၎င်း၏မြင့်မားသော ညီညွတ်မှုအား ပံ့ပိုးပေးသောကြောင့် ဖြစ်သည်။ Tin သည် ပွတ်တိုက်မှု၏ ကိန်းဂဏန်းနိမ့်သည်၊ ၎င်းသည် ၎င်းကို bearing material အဖြစ်အသုံးပြုရာတွင် ပထမဆုံးထည့်သွင်းစဉ်းစားခြင်းဖြစ်သည်။ Tin သည် ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံအရ အားနည်းသောသတ္တုဖြစ်ပြီး ၎င်းကို bearing applications များတွင်အသုံးပြုသောအခါ ၎င်းကို Copper နှင့် Aluminum တို့ဖြင့် ရောစပ်ထားပြီး မာကျောမှု၊ ဆန့်နိုင်အားနှင့် ပင်ပန်းနွမ်းနယ်မှုကို ခံနိုင်ရည်တိုးစေသည်။ အလူမီနီယမ်တင် ကြေးနီအလွိုင်းသည် အလယ်အလတ် မာကျောမှု၊ မြင့်မားစွာ ဝတ်ဆင်မှု ခံနိုင်ရည်ရှိသောကြောင့် ၎င်းအား အင်ဂျင်များတွင် တုတ်များနှင့် တွန်းဝက်ဝံများ ချိတ်ဆက်ရန်အတွက် သင့်လျော်သော ရွေးချယ်မှုတစ်ခု ဖြစ်စေသည်။ အထူးသဖြင့် ဖုန်ထူသောပတ်ဝန်းကျင်များတွင် ရေနံပြိုကွဲမှုနှင့် ကောင်းစွာမြှုပ်နှံနိုင်မှု ထုတ်ကုန်များကြောင့် သံချေးတက်ခြင်းကို ကောင်းစွာခံနိုင်ရည်ရှိကြောင်း ပြသသည်။

ကျွန်ုပ်တို့၏ ပုံမှန် AlSnCu ထုတ်ကုန်များနှင့် ဂုဏ်သတ္တိများ

	အယ်လ်-၁၈Sn-1Cuwt%	Al-25Sn-1Cuwt%	Al-49Sn-1Cuwt%
သန့်ရှင်းမှု(%)	99.8/99.95	99.8/99.95	99.8/99.95
သိပ်သည်းမှု(ဂရမ်/စင်တီမီတာ^၃)	၃.၁	၃.၂	၃.၉၅
လုပ်ငန်းစဉ်	ကာစ်+လူးလိမ့်	ကာစ်+လူးလိမ့်	ကာစ်+လူးလိမ့်

Aluminum Tin Copper Sputtering Target ထုပ်ပိုးခြင်း။

ကျွန်ုပ်တို့၏ အလူမီနီယမ်တင် ကြေးနီရေပက်ပစ်မှတ်ကို ထိရောက်စွာ ဖော်ထုတ်ခြင်းနှင့် အရည်အသွေးထိန်းချုပ်မှု သေချာစေရန်အတွက် ပြင်ပတွင် ရှင်းလင်းစွာ တံဆိပ်တပ်ထားသည်။ သိုလှောင်မှု သို့မဟုတ် သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးအတွင်း ဖြစ်ပေါ်လာနိုင်သည့် ပျက်စီးဆုံးရှုံးမှုမှန်သမျှကို ရှောင်ရှားရန် အထူးဂရုပြုပါသည်။

ဆက်သွယ်ရန်

RSM ၏ အလူမီနီယမ်တင် ကြေးနီစပရိုက်ပစ်မှတ်များသည် အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုနှင့် တစ်ပြေးညီဖြစ်သည်။ ၎င်းတို့ကို ပုံစံအမျိုးမျိုး၊ သန့်ရှင်းမှု၊ အရွယ်အစားနှင့် ဈေးနှုန်းများဖြင့် ရရှိနိုင်ပါသည်။ ကျွန်ုပ်တို့သည် မှိုအပေါ်ယံပိုင်း၊ အလှဆင်ခြင်း၊ မော်တော်ကားအစိတ်အပိုင်းများ၊ Low-E glass၊ semi-conductor ပေါင်းစပ်ပတ်လမ်း၊ ပါးလွှာသောဖလင်များတွင် အသုံးပြုရန်အတွက် အမြင့်ဆုံးသောသိပ်သည်းဆနှင့် အသေးငယ်ဆုံးဖြစ်နိုင်သော ပျမ်းမျှစပါးအရွယ်အစားများနှင့်အတူ သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ပါးလွှာသောဖလင်အပေါ်ယံပိုင်းပစ္စည်းများကို အထူးပြုထုတ်လုပ်ပါသည်။ ခံနိုင်ရည်၊ ဂရပ်ဖစ်ပြသမှု၊ အာကာသယာဉ်၊ သံလိုက်မှတ်တမ်းတင်မှု၊ ထိတွေ့မျက်နှာပြင်၊ ပါးလွှာသောဖလင်ဆိုလာဘက်ထရီနှင့်အခြားရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်း (PVD) အသုံးချပရိုဂရမ်များ။ sputtering ပစ်မှတ်များနှင့် စာရင်းမသွင်းထားသော အခြား အစစ်ခံပစ္စည်းများအတွက် လက်ရှိစျေးနှုန်းအတွက် စုံစမ်းမေးမြန်းရန် ကျွန်ုပ်တို့ထံ ပေးပို့ပါ။