AlNb Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်ထားသည်။

ပစ်မှတ်များကို အလူမီနီယမ် နှင့် နီအိုဘီယမ် အမှုန့်များ ရောစပ်ပြီး သိပ်သည်းဆ ပြည့်အောင် ကြိတ်ခွဲခြင်းဖြင့် ပြင်ဆင်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် ကျစ်ကျစ်လျစ်လျစ်ထားသော ပစ္စည်းများကို စိတ်ကြိုက်ရွေးချယ်ကာ သန့်စင်ပြီး လိုချင်သော ပစ်မှတ်ပုံသဏ္ဍာန်အဖြစ် ဖွဲ့စည်းထားသည်။ ၎င်းသည် မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်မှု၊ တစ်သားတည်းကျသော အသေးစားဖွဲ့စည်းပုံ၊ ရိုးရှင်းသော လုပ်ငန်းစဉ်နည်းလမ်းနှင့် ယှဉ်ပြိုင်မှုစရိတ်စကများပါရှိပြီး အသုံးချပရိုဂရမ်များနှင့် စက်မှုလုပ်ငန်းအများအပြားတွင် အသုံးပြုပါသည်။

အလူမီနီယမ်-နီအိုဘီယမ်သတ္တုစပ်များသည် အတော်အတန်ခိုင်မာမှုနှင့် မာကျောမှု၊ အလွန်ကောင်းမွန်သော ဓာတုတည်ငြိမ်မှုရှိပြီး မြင့်မားသောအပူချိန်အဆင့်ရှိသော ပတ်ဝန်းကျင်အတွက် ပြီးပြည့်စုံပါသည်။ ထို့အပြင် Nb-Al သတ္တုစပ်ကို superconductivity ပစ္စည်းများအဖြစ် အသုံးပြုနိုင်သည်။ မြင့်မားသော အရည်ပျော်မှတ်နှင့် သိပ်သည်းဆနည်းသော အသွင်အပြင်ရှိပြီး အာကာသယာဉ်၊ ရေကြောင်း၊ စက်မှုဓာတ်ငွေ့တာဘိုင်၊ လေယာဉ်၊ နူကလီးယားဓာတ်ပေါင်းဖိုလောင်စာ၊ ရေနံဓာတုပစ္စည်းစက်မှုလုပ်ငန်းများတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အသုံးပြုပါသည်။ အလူမီနီယမ်-နီအိုဘီယမ်သတ္တုစပ်များသည် စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသော တိုက်တေနီယမ်အလွိုင်းများကို ထုတ်လုပ်ရန်အတွက်လည်း အရေးပါသည့် အပြင်၊

ကြွယ်ဝသော အထူးပစ္စည်းများသည် Sputtering ပစ်မှတ်ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် အထူးပြုပြီး အလူမီနီယမ် Niobium Sputtering Materials များကို Customer များ၏ သတ်မှတ်ချက်များနှင့်အညီ ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များသည် အလွန်ကောင်းမွန်သော စက်ပိုင်းဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများ၊ တစ်သားတည်းကျသောဖွဲ့စည်းပုံ၊ ခွဲခြားထားခြင်းမရှိဘဲ ပွတ်တိုက်သောမျက်နှာပြင်၊ ချွေးပေါက်များ သို့မဟုတ် အက်ကွဲကြောင်းများပါရှိသည်။ ပိုမိုသိရှိလိုပါက ကျွန်ုပ်တို့ထံ ဆက်သွယ်ပါ။