Bejgħ bl-ingrossa NiV Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Fabbrikant u Fornitur magħmul apposta

Nikil Vanadju

NiV Sputtering Mira Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Custom Made Dehru Dehru Immaġni

Deskrizzjoni qasira:

Kategorija	Mira Sputtering Liga
Formula Kimika	NiV
Kompożizzjoni	Nikil Vanadju
Purità	99.9%，99.95%，99.99%
Forma	Pjanċi，Miri tal-Kolonna，katodi tal-ark，Magħmul apposta
Proċess ta' Produzzjoni	Tidwib bil-vakwu
Daqs Disponibbli	L≤4000mm, W≤350mm

Ibgħat email lilna

Dettall tal-Prodott

Tags tal-Prodott

Deskrizzjoni tal-mira tan-nikil vanadju sputtering

Id-deheb spiss jiġi applikat fid-depożizzjoni ta 'saff ta' ċirkwit integrat, iżda l-kompost li jdub baxx AuSi ħafna drabi jiġi ffurmat jekk id-Deheb jiġi kkombinat mas-Silikon, li jikkawża l-looseness bejn saffi differenti. Nikil Pur huwa għażla tajba għal saff Adeżiv, filwaqt li saff Barrier huwa wkoll meħtieġ bejn is-saff tan-Nikil u tad-Deheb biex jipprevjeni l-proliferazzjoni. Il-vanadju jista 'jissodisfa perfettament dan ir-rekwiżit b'punt ta' tidwib għoli u kapaċità ta 'densità għolja ta' ampere permanenti. Għalhekk nikil, vanadju u deheb huma tliet materjali normalment applicated fl-industrija taċ-ċirkwit integrat. Nikil Vanadium Sputtering Target huwa manifatturat billi żżid Vanadju f'Nikel imdewweb. B'ferromagnetism baxx, hija għażla tajba għall-magnetron sputtering ta 'prodotti elettroniċi, li jistgħu jipproduċu saff tan-nikil u saff ta' Vanadju f'ħin wieħed.

Ni-7V wt% Kontenut ta 'Impurità

Purità	Komponent Prinċipali(wt%)	Kimiċi ta' Impurità（≤ppm）							Impurità B'kollox(≤ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99.99	7±0.5	20	30	20	100	30	100	20	100
99.95	7±0.5	200	200	200	100	100	200	50	500
99.9	7±0.5	300	300	300	100	100	200	50	500

Ippakkjar fil-mira tan-nikil vanadju sputtering

Il-mira tagħna ta 'sputter Nikil Vanadium hija mmarkata b'mod ċar u ttikkettati esternament biex tiżgura identifikazzjoni effiċjenti u kontroll tal-kwalità. Tingħata attenzjoni kbira biex tiġi evitata kwalunkwe ħsara li tista 'tiġi kkawżata waqt il-ħażna jew it-trasport.

Ikseb Kuntatt

Il-miri ta 'sputtering tan-Nikel Vanadium ta' RSM huma ta 'purità ultra-għolja u uniformi. Huma disponibbli f'diversi forom, puritajiet, daqsijiet u prezzijiet. Aħna jispeċjalizzaw fil-produzzjoni ta 'materjali ta' kisi ta 'film irqiq ta' purità għolja b'rendiment eċċellenti kif ukoll l-ogħla densità possibbli u l-iżgħar daqsijiet ta 'qamħ medju possibbli għall-użu fil-kisi tal-moffa, dekorazzjoni, partijiet tal-karozzi, ħġieġ low-E, ċirkwit integrat semi-konduttur, film irqiq. reżistenza, wiri grafiku, aerospazjali, reġistrazzjoni manjetika, touch screen, batterija solari tal-film irqiq u fwar fiżiku ieħor applikazzjonijiet ta' depożizzjoni (PVD). Jekk jogħġbok ibgħatilna inkjesta għall-ipprezzar attwali fuq miri ta 'sputtering u materjali oħra ta' depożizzjoni mhux elenkati.

Preċedenti: WCu Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Magħmul apposta

Li jmiss: NiCr Sputtering Mira Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Magħmul apposta