AlNi Alloy Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Kisi PVD Custom Made

Mira ta 'sputtering tal-liga tan-nikil tal-aluminju hija prodotta permezz ta' tidwib bil-vakwu u metallurġija tal-enerġija. Taħlit ta 'Aluminju u Nikil f'ammont meħtieġ biex jipprovdi ingott ta' ikkastjar AlNi. L-ingott tal-ikkastjar imbagħad jinqata 'biex jifforma l-forma ta' mira mixtieqa. Għandu konsistenza għolja, daqs tal-qamħ raffinat u mikrostruttura omoġenja, mingħajr puff tal-gass jew pori.

Minħabba l-kombinazzjoni eċċellenti tal-materjal tal-kisi u tas-sottostrat, il-kisi AlNi għandu prestazzjoni tajba taħt 700℃. Issa l-mira ta 'sputtering AlNi tintuża b'mod estensiv f'kisjiet reżistenti għall-ilbies, inklużi għodod tal-qtugħ, forom, industriji tal-karozzi u tal-kostruzzjoni.

Materjali Speċjali Sinjuri huwa Manifattur ta 'Sputtering Target u jista' jipproduċi Materjali ta 'Sputtering tal-Aluminju Nikil skont l-ispeċifikazzjonijiet tal-Klijenti. Għal aktar informazzjoni, jekk jogħġbok ikkuntattjana.