Il-mira għandha suq wiesa ', żona ta' applikazzjoni u żvilupp kbir fil-futur. Sabiex jgħinek tifhem aħjar il-funzjonijiet fil-mira, hawn taħt l-inġinier RSM se jintroduċi fil-qosor ir-rekwiżiti funzjonali ewlenin tal-mira.
Purità: il-purità hija waħda mill-indikaturi funzjonali ewlenin tal-mira, minħabba li l-purità tal-mira għandha impatt kbir fuq il-funzjoni tal-film. Madankollu, fl-applikazzjoni prattika, ir-rekwiżiti tal-purità tal-mira huma wkoll differenti. Pereżempju, bl-iżvilupp mgħaġġel tal-industrija tal-mikroelettronika, id-daqs tal-wejfer tas-silikon huwa estiż minn 6 "sa 8" għal 12 ", u l-wisa 'tal-wajers titnaqqas minn 0.5um għal 0.25um, 0.18um jew saħansitra 0.13um. Preċedentement, 99.995% tal-purità fil-mira jistgħu jissodisfaw ir-rekwiżiti tal-proċess ta '0.35umic, filwaqt li l-preparazzjoni ta' linji 0.18um teħtieġ 99.999% jew saħansitra 99.9999% tal-purità fil-mira.
Kontenut ta 'impurità: l-impuritajiet fis-solidi fil-mira u l-ossiġnu u l-fwar tal-ilma fil-pori huma s-sorsi ewlenin tat-tniġġis ta' films depożitati. Il-miri għal skopijiet differenti għandhom rekwiżiti differenti għal kontenut ta 'impurità differenti. Pereżempju, aluminju pur u miri ta 'liga tal-aluminju użati fl-industrija tas-semikondutturi għandhom rekwiżiti speċjali għall-kontenut tal-metall alkali u l-kontenut tal-element radjuattiv.
Densità: sabiex jitnaqqsu l-pori fis-solidu fil-mira u tittejjeb il-funzjoni tal-film sputtering, il-mira hija ġeneralment meħtieġa li jkollha densità għolja. Id-densità tal-mira mhux biss taffettwa r-rata ta 'sputtering, iżda taffettwa wkoll il-funzjonijiet elettriċi u ottiċi tal-film. Iktar ma tkun għolja d-densità tal-mira, aħjar tkun il-funzjoni tal-film. Barra minn hekk, id-densità u s-saħħa tal-mira huma mtejba sabiex il-mira tkun tista 'taċċetta aħjar l-istress termali fil-proċess ta' sputtering. Id-densità hija wkoll waħda mill-indikaturi funzjonali ewlenin tal-mira.
Ħin tal-post: Mejju-20-2022