FeSi Sputtering Target Purità Għolja Thin Film Pvd Kisi Magħmul apposta

Il-liga tas-silikon tal-ħadid ġeneralment għandha l-kontenut tas-Silikon ta '0.5-4%. Għandu telf ta 'istereżi aktar baxx minn Ħadid pur u reżistenza għolja, u jista' jiġi applikat fil-kamp manjetiku. Sabiex jitnaqqas it-telf tal-kurrent eddy, il-liga tas-silikon tal-ħadid ħafna drabi tiġi rrumblata bis-sħana f'folji ta '0.35-0.5mm (laminazzjoni tas-silikon). Il-laminazzjoni tas-silikon tintuża b'mod estensiv fl-industrija tal-enerġija elettrika, għalhekk tissejjaħ ukoll azzar elettriku.

Il-liga tal-ferrosilicon toffri proprjetà manjetika eċċellenti u manjetizzazzjoni ta 'saturazzjoni baxxa. Għandu daqs tal-qamħ oħxon, permeabilità manjetika għolja u reżistenza, forza ta 'koerċizzjoni baxxa u telf tal-qalba. Is-silikon jista 'jippromwovi l-grafitizzazzjoni tal-Karbonju fl-azzar u jipprevjeni b'mod effettiv il-fenomenu tat-tixjiħ manjetiku. Ferrosilicon liga għandha stabbiltà għolja u jistgħu jiġu applikati ambjent estrem.

Rich Special Materials tispeċjalizza fil-Manifattura ta 'Sputtering Target u tista' tipproduċi Materjali ta 'Sputtering tal-Ħadid tas-Silikon skond l-ispeċifikazzjonijiet tal-Klijenti. Għal aktar informazzjoni, jekk jogħġbok ikkuntattjana.