CrAl Alloy Sputtering Mira Purità Għolja Thin Film PVD Kisi Magħmul apposta
Aluminju tal-Kromju
Il-fabbrikazzjoni tal-Miri tal-Sputtering tal-Aluminju tal-Kromju tinkludi l-passi li ġejjin:
1. Tħin u taħlit tat-trab.
2. Trattament ta 'ippressar iżostatiku sħun biex tikseb prodotti nofshom lesti.
3. Makkinar tal-materjal tal-mira sputtering tal-liga tal-aluminju tal-kromju mhux maħduma biex tikseb il-materjal tal-mira tal-sputtering tal-liga tal-aluminju tal-kromju.
Matul il-proċess ta 'depożizzjoni ta' miri ta 'sputtering ta' CrAl, hija ffurmata kisi iebes ta 'Aluminium-Chrom-Nitrid (AlCrN). Dan il-kisi juri proprjetajiet ta 'ebusija għolja u reżistenza għall-ossidazzjoni anke f'temperatura għolja. Il-cutters jistgħu jaħdmu b'għalf għoli biex iżidu l-produttività u jgħollu l-kwalità meta jużaw magni CNC.
Il-miri AlCr tipiċi tagħna u l-proprjetajiet tagħhom
| Cr-70Alfi% | Cr-60Alfi% | Cr-50Alfi% | |
| Purità (%) | 99.8/99.9/99.95 | 99.8/99.9/99.95 | 99.8/99.9/99.95 |
| Densità（g/ċm3） | 3.7 | 4.35 | 4.55 |
| Gxita Daqs(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| Proċess | ġenbejn | ġenbejn | ġenbejn |
Rich Special Materials tispeċjalizza fil-Manifattura ta 'Sputtering Target u tista' tipproduċi Materjali ta 'Sputtering tal-Kromju tal-Aluminju skont l-ispeċifikazzjonijiet tal-Klijenti. Il-prodotti tagħna għandhom proprjetajiet mekkaniċi eċċellenti, struttura omoġenja, wiċċ illustrat mingħajr segregazzjoni, pori jew xquq. Għal aktar informazzjoni, jekk jogħġbok ikkuntattjana.
Kategoriji tal-prodotti
-
AlCu Sputtering Target Purità Għolja Thin Film PV...
-
AlNi Alloy Sputtering Target Purità Għolja Thin F...
-
AlSiCu Liga Sputtering Mira Purità Għolja Irqiq...
-
AlZn Sputtering Target Purità Għolja Thin Film PV...
-
AlSnCu Sputtering Target Purità Għolja Thin Film...
-
AlNb Liga Sputtering Mira Purità Għolja Thin F...