Kita semua tahu bahawa terdapat banyak spesifikasi sasaran sputtering,yang mempunyai awpelbagai ide aplikasi.Tvarieti sasaran yang biasa digunakan dalam industri yang berbeza juga berbeza, hari ini mari datang dengan BeijingRichmat bersama-sama untuk mengetahui tentang klasifikasi industri sasaran sputtering.
一、Definisi bahan sasaran terpercik
Sputtering adalah salah satu teknologi utama untuk menyediakan bahan filem nipis. Ia menggunakan ion yang dihasilkan oleh sumber ion untuk membentuk pancaran ion dengan tenaga halaju tinggi melalui pengagregatan dipercepatkan dalam vakum. Permukaan pepejal yang dibombardir, ion dan atom permukaan pepejal mempunyai pertukaran tenaga kinetik, supaya atom pada permukaan pepejal meninggalkan pepejal dan memendap pada permukaan substrat, pepejal yang dibombardir adalah bahan mentah untuk menyediakan filem terdeposit sputtering, yang dikenali sebagai sasaran sputtering.
二、Klasifikasi medan aplikasi bahan sasaran sputtering
1、Sasaran semikonduktor
(1)Bahan yang biasa digunakan:Sasaran biasa dalam bidang ini termasuk tantalum, tembaga, titanium, aluminium, emas, nikel dan logam takat lebur tinggi yang lain.
(2)Penggunaan：Pada asasnya digunakan pada data asal penting litar bersepadu
(3)Keperluan fungsian：Keperluan teknikal mengenai ketulenan, saiz, integrasi adalah tinggi.
2 、Bahan sasaran untuk paparan planar
(1)Bahan yang biasa digunakan：Sasaran yang biasa digunakan dalam bidang ini termasuk aluminium/kuprum/molibdenum/nikel/niobium/silikon/kromium, dsb.
(2)Penggunaan：Bahan sasaran jenis ini digunakan terutamanya dalam pelbagai jenis filem kawasan besar TV dan buku nota.
(3)Keperluan fungsian：Keperluan tinggi pada ketulenan, kawasan besar, keseragaman dan sebagainya.
3、Sasaran untuk sel suria
(1)Bahan yang biasa digunakan：Sasaran aluminium/kuprum/Molibdenum/kromium /ITO/Ta biasanya digunakan dalam sel suria.
(2)Penggunaan：Terutamanya digunakan dalam "lapisan tingkap", lapisan penghalang, elektrod dan filem konduktif dan majlis-majlis lain.
(3)Keperluan fungsian：Keperluan kemahiran tinggi, pelbagai penggunaan.
4、Bahan sasaran untuk penyimpanan maklumat
(1)Bahan yang biasa digunakan：Penyimpanan maklumat yang biasa digunakan bahan sasaran kobalt/nikel/ferroaloi/kromium/tellurium/selenium.
(2)Penggunaan：Bahan sasaran di sini digunakan terutamanya untuk bahagian kepala, lapisan tengah dan lapisan bawah cd-rom dan CD.
(3) Keperluan fungsian：Ketumpatan storan yang tinggi dan kelajuan penghantaran yang tinggi diperlukan.
5、Bahan sasaran untuk pengubahsuaian alat
(1)Bahan yang biasa digunakan：Pengubahsuaian alatan aloi titanium/zirkonium/kisi/chrome-aluminium dan sasaran lain.
(2)penggunaan:Ia biasanya digunakan untuk peningkatan penampilan.
(3)Keperluan fungsian：Keperluan fungsi yang tinggi, hayat perkhidmatan yang panjang.
6、Bahan sasaran untuk peranti elektronik
(1)Bahan yang biasa digunakan:Sasaran aloi aluminium/silisida biasanya digunakan dalam peranti elektronik
(2)Penggunaan：Biasanya digunakan untuk perintang filem dan kapasitor.
(3)Keperluan fungsian：Saiz kecil, kestabilan, pekali suhu rintangan rendah
Masa siaran: Apr-21-2022