Penyaduran vakum dalam pemilihan bahan sasaran sputtering telah menjadi isu bagi orang ramai, pada masa ini, kerana salutan sputtering, terutamanya pembangunan kemahiran salutan sputtering magnetron, boleh dikatakan untuk sebarang maklumat untuk dapat menyasarkan penyediaan bahan filem nipis oleh pengeboman ion, kerana dengan memercikkan bahan sasaran dalam proses salutan kepada jenis substrat, mempunyai kesan penting ke atas kualiti filem sputtering, Oleh itu, keperluan bahan sasaran adalah lebih ketat. Di sini kita akan belajar tentang peranan sasaran sputtering dalam salutan vakum bersama-sama dengan editor Beijing Relaxation
一、Prinsip pemilihan dan pengelasan bahan sasaran
Dalam pemilihan bahan sasaran, selain penggunaan filem itu sendiri harus dipilih, masalah berikut juga harus dipertimbangkan:
Masalah 1. Mengikut keperluan penggunaan dan prestasi membran, adalah perlu untuk bahan sasaran memenuhi keperluan teknikal ketulenan, kandungan majalah, keseragaman komponen, ketepatan pemesinan dan sebagainya.
Masalah 2. Bahan sasaran harus mempunyai kekuatan mekanikal yang baik dan kestabilan kimia selepas pembentukan filem;
Masalah 3. Bahan filem perlu menghasilkan filem kompaun dengan mudah dengan gas tindak balas sebagai filem sputtering reaktif;
Masalah 4. Adalah perlu untuk menetapkan sasaran dan matriks untuk menjadi kuat, jika tidak, bahan filem dengan lekatan yang baik dengan matriks harus diguna pakai, mula-mula memercikkan lapisan filem bawah dan kemudian menyediakan lapisan filem yang diperlukan;
Soalan 5. Pada premis untuk memenuhi keperluan prestasi filem, lebih kecil perbezaan antara pekali pengembangan haba sasaran dan matriks, lebih baik, untuk mengurangkan pengaruh tegasan haba filem sputtering;
Penyediaan beberapa sasaran yang biasa digunakan
(1) sasaran cr
Kromium sebagai bahan filem sputtering bukan sahaja mudah untuk digabungkan dengan bahan asas mempunyai lekatan yang tinggi, dan filem kromium dan oksida CrQ3, sifat mekanikalnya, rintangan asid dan kestabilan haba adalah lebih baik.
Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. terlibat terutamanya dalam: sasaran zirkonium sasaran titanium, sasaran aluminium, sasaran nikel, sasaran kromium, sasaran tungsten, sasaran molibdenum, sasaran tembaga, sasaran silikon, sasaran niobium, sasaran tantalum, aloi titanium-silikon sasaran, sasaran aloi titanium-niobium, sasaran aloi titanium-tungsten, sasaran aloi titanium-zirkonium, aloi nikel-kromium sasaran, sasaran aloi silika-aluminium, sasaran aloi nikel-vanadium, sasaran aloi terner kromium-aluminium-silikon，Bahan sasaran aloi ternari Ti al si, digunakan secara meluas dalam hiasan/permukaan keras dan salutan berfungsi, kaca seni bina, paparan rata/fotoelektrik optik , storan optik, elektronik, percetakan dan profesion lain.
Masa siaran: Jun-02-2022