Sasaran mempunyai pasaran yang luas, kawasan aplikasi dan pembangunan yang besar pada masa hadapan. Untuk membantu anda memahami dengan lebih baik fungsi sasaran, di bawah ini jurutera RSM akan memperkenalkan secara ringkas keperluan fungsi utama sasaran.
Ketulenan: ketulenan adalah salah satu penunjuk fungsi utama sasaran, kerana ketulenan sasaran mempunyai kesan yang besar terhadap fungsi filem. Walau bagaimanapun, dalam aplikasi praktikal, keperluan ketulenan sasaran juga berbeza. Sebagai contoh, dengan perkembangan pesat industri mikroelektronik, saiz wafer silikon diperluas daripada 6 "ke 8" kepada 12 ", dan lebar pendawaian dikurangkan daripada 0.5um kepada 0.25um, 0.18um atau bahkan 0.13um. Sebelum ini, 99.995% ketulenan sasaran boleh memenuhi keperluan proses 0.35umic, manakala penyediaan garisan 0.18um memerlukan 99.999% atau bahkan 99.9999% daripada ketulenan sasaran.
Kandungan kekotoran: kekotoran dalam pepejal sasaran dan oksigen dan wap air dalam liang adalah sumber pencemaran utama filem termendap. Sasaran untuk tujuan yang berbeza mempunyai keperluan yang berbeza untuk kandungan kekotoran yang berbeza. Sebagai contoh, sasaran aloi aluminium dan aluminium tulen yang digunakan dalam industri semikonduktor mempunyai keperluan khas untuk kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif.
Ketumpatan: untuk mengurangkan liang dalam pepejal sasaran dan meningkatkan fungsi filem sputtering, sasaran biasanya diperlukan untuk mempunyai ketumpatan tinggi. Ketumpatan sasaran bukan sahaja mempengaruhi kadar sputtering, tetapi juga mempengaruhi fungsi elektrik dan optik filem. Lebih tinggi ketumpatan sasaran, lebih baik fungsi filem. Selain itu, ketumpatan dan kekuatan sasaran dipertingkatkan supaya sasaran dapat menerima tegasan haba dalam proses sputtering dengan lebih baik. Ketumpatan juga merupakan salah satu petunjuk fungsi utama sasaran.
Masa siaran: Mei-20-2022