Dengan peningkatan permintaan pasaran, semakin banyak jenis sasaran sputtering sentiasa dikemas kini. Ada yang biasa dan ada yang tidak dikenali oleh pelanggan. Sekarang, kami ingin berkongsi dengan anda apakah jenis sasaran percikan magnetron.
Sasaran sputtering mempunyai jenis berikut: sasaran salutan sputtering logam, sasaran salutan sputtering aloi, sasaran salut sputtering seramik, sasaran sputtering seramik boride, sasaran sputtering seramik karbida, sasaran sputtering seramik fluorida, sasaran sputtering seramik nitrida, sasaran seramik sputtering selenide , sasaran percikan seramik silisid, sasaran sputtering seramik sulfida, sasaran sputtering seramik telluride, sasaran seramik lain, sasaran seramik silikon oksida berdop kromium (CR SiO), sasaran indium fosfida (INP), sasaran arsenide plumbum (pbas), sasaran indium arsenide (InAs).
Sputtering magnetron secara amnya dibahagikan kepada dua jenis: sputtering DC dan sputtering RF. Prinsip peralatan sputtering DC adalah mudah, dan kadarnya juga pantas apabila logam sputtering. RF sputtering digunakan secara meluas. Selain memercikkan data konduktif, ia juga boleh memercikkan data bukan konduktif. Pada masa yang sama, sasaran sputtering juga melakukan sputtering reaktif untuk menyediakan data kompaun seperti oksida, nitrida dan karbida. Jika frekuensi RF meningkat, ia akan menjadi gelombang mikro plasma sputtering. Pada masa ini, sputtering plasma gelombang mikro elektron cyclotron resonance (ECR) biasanya digunakan.
Masa siaran: 18 Mei 2022