Penggunaan meluas bahan sasaran dalam pelbagai profesion menjadikan permintaan bahan sasaran semakin tinggi dan lebih tinggi. berikut Kami akan memperkenalkan secara ringkas awak apakah keperluan fungsi utama sasaran, hoping untuk membantu anda.
Ketulenan: Ketulenan ialah salah satu penunjuk fungsi utama sasaran, kerana ketulenan sasaran mempunyai kesan yang besar pada fungsi filem. Tetapi dalam amalan, ketulenan bahan sasaran tidak sama. Sebagai contoh, dengan pertumbuhan pesat profesion mikroelektronik, Saiz wafer silikon telah berkembang daripada 6 ", 8" hingga 12", dan lebar pendawaian telah menurun daripada 0.5um kepada 0.25um, 0.18um dan juga 0.13um. Apabila 99.995% ketulenan sasaran dapat memenuhi keperluan teknologi 0.35UMIC. Penyediaan garisan 0.18um memerlukan 99.999% atau 99.999% ketulenan bahan sasaran.
Ketumpatan: Untuk mengurangkan keliangan dalam pepejal sasaran dan meningkatkan fungsi filem sputtering, sasaran biasanya dikehendaki mempunyai ketumpatan tinggi. Ketumpatan sasaran mempengaruhi bukan sahaja kadar sputtering tetapi juga sifat elektrik dan optik filem. Lebih tinggi ketumpatan sasaran, lebih baik fungsi filem. Di samping itu, ketumpatan dan kekuatan bahan sasaran telah ditingkatkan untuk menjadikannya lebih mampu menahan tekanan haba semasa sputtering. Ketumpatan juga merupakan salah satu penunjuk fungsi penting bahan sasaran.
Kandungan kekotoran: kekotoran dalam pepejal sasaran dan oksigen dan wap air dalam liang adalah sumber pencemaran utama bagi filem terkumpul. Bahan sasaran yang berbeza untuk tujuan yang berbeza mempunyai keperluan yang berbeza untuk kandungan kekotoran yang berbeza. Sebagai contoh, sasaran aloi aluminium dan aluminium tulen yang digunakan dalam industri semikonduktor mempunyai keperluan khas untuk kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif.
Masa siaran: Jun-06-2022