Permintaan pasaran untuk sasaran sputtering logam yang digunakan dalam industri paparan panel rata

Panel paparan kristal cecair transistor filem nipis kini merupakan teknologi paparan panel rata arus perdana, dan sasaran percikan logam adalah salah satu bahan yang paling kritikal dalam proses pembuatan. Pada masa ini, permintaan untuk sasaran percikan logam yang digunakan dalam barisan pengeluaran panel LCD arus perdana di China adalah yang tertinggi untuk empat jenis sasaran: aloi aluminium, tembaga, molibdenum dan molibdenum niobium. Izinkan saya memperkenalkan permintaan pasaran untuk sasaran sputtering logam dalam industri paparan rata.

1、 Sasaran aluminium

Pada masa ini, sasaran aluminium yang digunakan dalam industri paparan kristal cecair domestik terutamanya didominasi oleh perusahaan Jepun.

2、 Sasaran tembaga

Dari segi trend pembangunan teknologi sputtering, bahagian permintaan untuk sasaran tembaga telah meningkat secara beransur-ansur. Di samping itu, dalam beberapa tahun kebelakangan ini, saiz pasaran industri paparan kristal cecair domestik terus berkembang. Oleh itu, permintaan untuk sasaran tembaga dalam industri paparan panel rata akan terus menunjukkan arah aliran menaik.

3、 Sasaran molibdenum julat luas

Dari segi perusahaan asing: Perusahaan asing seperti Panshi dan Shitaike pada asasnya memonopoli pasaran sasaran molibdenum luas domestik. Dihasilkan secara domestik: Sehingga penghujung tahun 2018, sasaran molibdenum julat luas yang dihasilkan dalam negara telah digunakan dalam pengeluaran panel paparan kristal cecair.

4、 sasaran aloi molibdenum niobium 10

Aloi molibdenum niobium 10, sebagai bahan pengganti penting untuk molibdenum aluminium molibdenum dalam lapisan penghalang resapan transistor filem nipis, mempunyai prospek permintaan pasaran yang menjanjikan. Walau bagaimanapun, disebabkan oleh perbezaan ketara dalam pekali resapan bersama antara atom molibdenum dan niobium, liang besar akan terbentuk dalam kedudukan zarah niobium selepas pensinteran suhu tinggi, menjadikannya sukar untuk meningkatkan ketumpatan pensinteran. Di samping itu, pengukuhan larutan pepejal yang kuat akan terbentuk selepas resapan penuh atom molibdenum dan niobium, yang membawa kepada kemerosotan prestasi penggelekannya. Walau bagaimanapun, selepas pelbagai percubaan dan penemuan, ia berjaya dilancarkan pada 2017 dengan kandungan oksigen kurang daripada 1000 × bilet sasaran aloi A Mo Nb dengan ketumpatan 99.3%.