Sasaran Yttrium Ketulenan Tinggi — Ahli Penting Salutan PVD

Apakah sasaran sputtering yttrium?
Sasaran Yttrium terutamanya dihasilkan oleh sasaran sputtering yttrium unsur logam, kerana unsur yttrium (Y) adalah salah satu unsur logam nadir bumi, jadi sasaran yttrium juga dikenali sebagai sasaran nadir bumi.
Sasaran Yttrium digunakan terutamanya dalam teknologi pemendapan sputtering. Teknologi pemendapan sputtering adalah salah satu teknologi pemendapan wap fizikal (PVD), dan merupakan salah satu teknologi utama untuk penyediaan bahan filem nipis elektronik. Dengan mengebom permukaan sasaran dengan zarah bertenaga tinggi (seperti ion atau pancaran elektron), atom atau molekul sasaran disembur keluar dan dimendapkan pada substrat lain untuk membentuk filem atau salutan yang dikehendaki.
Sasaran yttrium hanyalah bahan sumber filem atau salutan yang dikehendaki yang disediakan oleh teknologi PVD.

Apa ituyangsasaran sputtering yttrium digunakan untuk?

Sasaran Yttrium mempunyai pelbagai aplikasi dalam beberapa bidang, berikut adalah kawasan aplikasi utama:

1. Bahan semikonduktor: Dalam industri semikonduktor, sasaran yttrium digunakan untuk menghasilkan lapisan khusus dalam bahan semikonduktor atau komponen elektronik, seperti transistor, litar bersepadu, dsb.
2. Salutan optik: Dalam bidang optik, sasaran yttrium boleh digunakan untuk menyediakan salutan optik dengan indeks biasan yang tinggi dan kadar serakan yang rendah, yang memainkan peranan penting dalam pengeluaran peranti optik seperti laser dan penapis optik.
3. Pemendapan filem nipis: Sasaran yttrium menduduki kedudukan penting dalam teknologi pemendapan filem nipis, dan ketulenan yang tinggi, kestabilan yang baik, serta sifat fizikal dan kimia tertentu menjadikannya pilihan yang ideal untuk menyediakan pelbagai bahan filem nipis. Bahan filem nipis ini mempunyai pelbagai aplikasi dalam bidang optik, elektronik, magnet dan lain-lain.
4. Bidang perubatan: sasaran yttrium mempunyai aplikasi penting dalam perubatan sinaran, seperti sumber sinar-X dan sinar gamma, pengimejan diagnostik (seperti imbasan CT), dan terapi sinaran. Selain itu, isotop khusus yttrium (seperti Y-90) juga boleh digunakan dalam radiofarmaseutikal untuk rawatan sasaran kanser tertentu.
5. Industri tenaga nuklear: Dalam reaktor nuklear, sasaran yttrium digunakan sebagai bahan tuil untuk mengawal kelajuan dan kestabilan tindak balas nuklear kerana kapasiti penyerapan neutron yang sangat baik.

Nota: Memandangkan keperluan prestasi sasaran yttrium dalam medan aplikasi yang berbeza mungkin berbeza, sasaran yang sesuai perlu dipilih mengikut situasi sebenar dalam aplikasi tertentu. (Seperti ketulenan khusus, nisbah komposisi, saiz, bentuk, dll., disesuaikan mengikut keperluan khusus.)

Teknologi pengeluaran sasaran sputtering yttrium?

1. Sediakan serbuk yttrium 2. HIP, acuan menekan 3. Pensinteran suhu tinggi 4. Pemprosesan seterusnya (Memotong, Menggilap, dll.) 5. Membersih dan membungkus

Nota:Selain langkah asas di atas, mengikut kaedah penyediaan dan keperluan aplikasi khusus, sasaran sputtering yttrium mungkin juga melibatkan langkah dan teknologi lain, seperti kaedah sputtering, kaedah lebur vakum, dsb. Kaedah ini membantu melaraskan dan mengoptimumkan lagi prestasi dan struktur bahan sasaran.

Bagaimana untuk memilih sasaran sputtering berkualiti tinggi?

Berikut menyenaraikan 7 faktor penting untuk memilih sasaran sputtering berkualiti tinggi:

1. Haigh kesucian

Sasaran ketulenan tinggi mempunyai sifat bahan yang lebih baik dan sifat fizikal dan kimia yang lebih stabil, yang penting untuk memastikan kualiti dan prestasi salutan sputtering. Keperluan ketulenan khusus harus ditentukan mengikut senario aplikasi, beberapa senario aplikasi mudah tidak perlu mengejar ketulenan ultra tinggi, supaya tidak meningkatkan kos yang tidak perlu. Apa yang sesuai dengan anda adalah yang terbaik.

2.Kestabilan

Kestabilan sasaran adalah sama penting, yang boleh mengelakkan kehilangan material atau turun naik prestasi semasa sputtering. Oleh itu, dalam pemilihan, seseorang memilih rawatan istimewa itu atau mempunyai kestabilan produk yang baik.

3. Saiz dan bentuk

Saiz dan bentuk sasaran sputtering harus dipilih mengikut keperluan khusus peralatan salutan untuk menyesuaikan diri dengan proses sputtering yang berbeza dan keperluan pengeluaran. Memastikan sasaran dipadankan dengan peralatan meningkatkan kecekapan sputtering dan mengurangkan pembaziran.

4.Ketumpatan

Ketumpatan adalah salah satu petunjuk penting untuk mengukur kualiti bahan sasaran. Bahan sasaran berketumpatan tinggi boleh memastikan kesan sputtering yang lebih baik. Apabila memilih, anda harus memberi perhatian kepada data ketumpatan sasaran, dan cuba memilih produk dengan ketumpatan yang lebih tinggi.

5. Ketepatan pemprosesan

Ketepatan pemprosesan sasaran juga merupakan salah satu faktor yang perlu diambil kira. Secara amnya, ketepatan pemprosesan sasaran diperlukan dalam lingkungan ±0.1mm untuk memastikan kestabilan proses sputtering dan keseragaman kualiti salutan.

6. Keperluan khas

Untuk beberapa senario aplikasi khas, seperti keperluan untuk penghantaran cahaya yang tinggi, penyerapan rendah sasaran (salutan optik) atau kekonduksian tinggi, kestabilan tinggi sasaran (medan elektronik), harus dipilih mengikut keperluan khusus sasaran yang sepadan. taip.

7. Pilih pengilang atau pembekal profesional.