Sasaran sputtering ialah bahan elektronik yang membentuk filem nipis dengan melekatkan bahan seperti aloi atau oksida logam pada substrat elektronik pada tahap atom. Antaranya, sasaran sputtering untuk filem menghitam digunakan untuk membentuk filem pada EL organik atau panel kristal cecair untuk menghitamkan pendawaian dan mengurangkan pantulan cahaya boleh dilihat (pantulan rendah) pendawaian TFT. Sasaran sputter mempunyai kelebihan dan kesan berikut. Berbanding dengan produk sebelumnya, ia membantu meningkatkan tahap kehalusan tinggi dan kebebasan reka bentuk pelbagai paparan, dan mengurangkan bunyi yang disebabkan oleh cahaya pemantulan pendawaian produk berkaitan semikonduktor.
Kelebihan dan kesan sasaran aluminium:
(1) Selepas sasaran aluminium terbentuk pada pendawaian, cahaya yang boleh dilihat boleh dikurangkan
berbanding dengan produk sebelumnya, ia boleh mencapai refleksi rendah.
(2) DC sputtering boleh dilakukan tanpa gas reaktif
berbanding dengan produk sebelumnya, adalah berguna untuk merealisasikan kehomogenan filem substrat besar.
(3) Selepas filem terbentuk, proses etsa boleh dilakukan bersama-sama dengan pendawaian
laraskan bahan mengikut proses goresan sedia ada pelanggan, dan boleh gores bersama pendawaian tanpa mengubah proses sedia ada. Di samping itu, syarikat juga akan memberikan sokongan mengikut keadaan pelanggan yang memercik.
(4) Rintangan haba yang sangat baik, rintangan air dan alkali
sebagai tambahan kepada rintangan air dan rintangan alkali, ia juga mempunyai rintangan haba yang tinggi, jadi ciri-ciri filem tidak akan berubah dalam proses pemprosesan pendawaian TFT.
Masa siaran: 10 Ogos 2022