Bahan sasaran aluminium oksida, bahan yang kebanyakannya terdiri daripada aluminium oksida ketulenan tinggi (Al2O3), digunakan dalam pelbagai teknologi penyediaan filem nipis, seperti magnetron sputtering, penyejatan rasuk elektron, dll. Aluminium oksida, sebagai bahan yang keras dan stabil secara kimia, bahan sasarannya boleh ...
Baca lagi