Selamat datang ke laman web kami!

FeCoTa Sputtering Target Lapisan Pvd Nipis Ketulenan Tinggi Dibuat Tersuai

Tantalum Kobalt Besi

Penerangan ringkas:

kategori

Sasaran Sputtering Aloi

Formula Kimia

FeCoTa

Komposisi

Tantalum Kobalt Besi

Kesucian

99.9%,99.95%,99.99%

bentuk

Plat, Sasaran Lajur, katod arka, Dibuat tersuai

Proses Pengeluaran

Pencairan Vakum,PM

Saiz Tersedia

L≤200mm,W≤200mm


Butiran Produk

Tag Produk

Sasaran Tantalum Kobalt Besi biasanya tersedia dalam bentuk bulat dan bahan filem nipis kritikal media rakaman magnetik menegak. Jumlah Tantalum yang banyak terdapat dalam aloi akan mengakibatkan pengasingan dan menghadirkan zarah tidak terlarut. Kami menggunakan kaedah pengeluaran unik yang boleh memastikan kehomogenan struktur mikro dan meningkatkan sifat mekanikal bahan.

Nama produk

FeCoTa

Fe/wt%

Baki

Baki

Baki

Co/wt%

21.6±0.5

21.9±0.5

20.2±0.5

Ta/wt%

41.1±0.8

39.4±0.8

44.3±0.8

Kandungan kekotoran logamppm)

Ni

≤100

≤100

≤100

Al

≤300

≤300

≤300

Si

≤200

≤200

≤200

Kandungan kekotoran gasppm)

C

≤200

≤200

≤200

N

≤100

≤100

≤100

O

≤600

≤600

≤600

S

≤75

≤75

≤75

Bahan Khas Kaya pakar dalam Pembuatan Sasaran Sputtering dan boleh menghasilkan Bahan Sputtering Tantalum Kobalt Besi mengikut spesifikasi Pelanggan. Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami.


  • Sebelumnya:
  • Seterusnya: