FeCoTa Sputtering Target Lapisan Pvd Nipis Ketulenan Tinggi Dibuat Tersuai
Tantalum Kobalt Besi
Sasaran Tantalum Kobalt Besi biasanya tersedia dalam bentuk bulat dan bahan filem nipis kritikal media rakaman magnetik menegak. Jumlah Tantalum yang banyak terdapat dalam aloi akan mengakibatkan pengasingan dan menghadirkan zarah tidak terlarut. Kami menggunakan kaedah pengeluaran unik yang boleh memastikan kehomogenan struktur mikro dan meningkatkan sifat mekanikal bahan.
Nama produk | FeCoTa | |||
Fe/wt% | Baki | Baki | Baki | |
Co/wt% | 21.6±0.5 | 21.9±0.5 | 20.2±0.5 | |
Ta/wt% | 41.1±0.8 | 39.4±0.8 | 44.3±0.8 | |
Kandungan kekotoran logam(ppm) | Ni | ≤100 | ≤100 | ≤100 |
Al | ≤300 | ≤300 | ≤300 | |
Si | ≤200 | ≤200 | ≤200 | |
Kandungan kekotoran gas(ppm) | C | ≤200 | ≤200 | ≤200 |
N | ≤100 | ≤100 | ≤100 | |
O | ≤600 | ≤600 | ≤600 | |
S | ≤75 | ≤75 | ≤75 |
Bahan Khas Kaya pakar dalam Pembuatan Sasaran Sputtering dan boleh menghasilkan Bahan Sputtering Tantalum Kobalt Besi mengikut spesifikasi Pelanggan. Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami.