CuMn Sputtering Sasaran Ketulenan Tinggi Lapisan Pvd Nipis Dibuat Tersuai
Tembaga Mangan
Sasaran sputtering aloi Mangan tembaga dibuat dengan cara lebur vakum. Ia mempunyai struktur mikro homogen, kekerasan tinggi dan sifat anti-ubah bentuk, dan hayat perkhidmatan yang panjang. Jadi ia boleh membantu mengurangkan kos pembuatan kerana ia tidak perlu untuk menggantikan sasaran sputter pada selang masa yang kerap.
Aloi Mangan Kuprum juga boleh digunakan untuk menghasilkan Loyang Mangan dan Aloi Cu-Ni-Mn. Mangan menunjukkan keterlarutan pepejal yang besar dalam kuprum dan merupakan agen pengukuhan larutan pepejal yang berkesan. Ia boleh meningkatkan kekerasan dan kekuatan dengan ketara, dan tingkah laku rintangan kakisan dalam tekanan marin, sederhana klorida dan wap.
Tembaga adalah unsur kimia yang berasal dari nama Inggeris Lama coper, yang seterusnya berasal dari bahasa Latin 'Cyprium aes', yang bermaksud logam dari Cyprus. Ia digunakan awal pada 9000 SM dan ditemui oleh orang dari Timur Tengah. "Cu" ialah simbol kimia kanonik tembaga. Nombor atomnya dalam jadual berkala unsur ialah 29 dengan lokasi pada Kala 4 dan Kumpulan 11, kepunyaan blok-d. Jisim atom relatif kuprum ialah 63.546(3) Dalton, nombor dalam kurungan yang menunjukkan ketidakpastian.
Mangan adalah unsur kimia yang berasal dari Sama ada 'magnes' Latin, bermaksud magnet atau daripada magnesium oksida hitam, 'magnesia nigra'. Ia pertama kali disebut pada tahun 1770 dan diperhatikan oleh O. Bergman. Pengasingan itu kemudiannya dicapai dan diumumkan oleh G. Gahn. "Mn" ialah simbol kimia kanonik mangan. Nombor atomnya dalam jadual berkala unsur ialah 25 dengan lokasi pada Kala 4 dan Kumpulan 7, kepunyaan blok-d. Jisim atom relatif mangan ialah 54.938045(5) Dalton, nombor dalam kurungan yang menunjukkan ketidakpastian.
Pelbagai bahan khas yang mengkhusus dalam pembuatan sasaran sputtering, kami boleh menghasilkan bahan sputtering tembaga dan mangan mengikut spesifikasi pelanggan. Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami.