Borong aloi AlTi Sputtering Target Pengeluar dan Pembekal Ketulenan Tinggi

Aluminium Titanium

Aloi AlTi Sputtering Sasaran Imej Pilihan Ketulenan Tinggi

Penerangan ringkas:

kategori	Sasaran Sputtering Aloi
Formula Kimia	AlTi
Komposisi	Aluminium Titanium
Kesucian	99.9%，99.95%，99.99%
bentuk	Plat, Sasaran Lajur, katod arka, Dibuat tersuai
Proses Pengeluaran	Pencairan Vakum，PM
Saiz Tersedia	L≤2000mm，W≤200mm

Hantar e-mel kepada kami

Butiran Produk

Tag Produk

Keperluan kualiti sasaran untuk salutan sputter adalah lebih tinggi daripada industri bahan tradisional. Struktur mikro seragam sasaran secara langsung mempengaruhi prestasi sputtering. Kami mempunyai sistem pengurusan kualiti yang lengkap dan kami memilih bahan mentah ketulenan tinggi dan menggabungkannya dengan teliti untuk memastikan kehomogenan. Sasaran sputtering aloi aluminium Titanium dihasilkan melalui kaedah menekan panas vakum.

Sasaran percikan Aluminium Titanium kami boleh memberikan salutan nitrida tahan pengoksidaan yang luar biasa, Titanium aluminium nitride (TiAlN). TiAlN ialah arus perdana semasa sebagai filem untuk alat pemotong, bahagian gelongsor dan salutan tribo. Ia mempunyai kekerasan yang tinggi, keliatan, prestasi tahan haus dan suhu pengoksidaan.

Sasaran AlTi biasa kami dan sifatnya

	Ti-75Al at%	Ti-70Al at%	Ti-67Al at%	Ti-60Al at%	Ti-50Al at%	Ti-30Al at%	Ti-20Al at%	Ti-14Al at%
Kesucian (%)	99.7	99.7	99.7	99.7	99.8/99.9	99.9	99.9	99.9
Ketumpatan（g/cm³）	3.1	3.2	3.3	3.4	3.63/3.85	3.97	4.25	4.3
Ghujan Saiz(µm)	100	100	100	100	100/-	-	-	-
Proses	PINGGUL	PINGGUL	PINGGUL	PINGGUL	PINGGUL/VAR	VAR	VAR	VAR

Bahan Khas Kaya pakar dalam Pembuatan Sasaran Sputtering dan boleh menghasilkan Bahan Sputtering Aluminium Titanium mengikut spesifikasi Pelanggan. Kami boleh membekalkan pelbagai bentuk geometri: tiub, katod arka, satah atau buatan khas, dan julat perkadaran yang luas bagi Aluminium. Produk kami mempunyai ciri mekanikal yang sangat baik, struktur mikro homogen, permukaan yang digilap tanpa pengasingan, liang atau retak. Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami.

Sebelumnya: AlNi Alloy Sputtering Target Lapisan PVD Nipis Ketulenan Tinggi Dibuat Tersuai

Seterusnya: AlTa Sputtering Target Lapisan PVD Nipis Ketulenan Tinggi Dibuat Tersuai