Sasaran Pemborong AlTa Sputtering Ketulenan Tinggi Filem Nipis PVD Salutan Custom Made Pengilang dan Pembekal

Aluminium-Tantalum

AlTa Sputtering Sasaran Filem Nipis Ketulenan Tinggi Salutan PVD Dibuat Tersuai Imej Pilihan

Penerangan ringkas:

kategori	Sasaran Sputtering Aloi
Formula Kimia	AlTa
Komposisi	Aluminium-Tantalum
Kesucian	99.9%，99.95%，99.99%
bentuk	Plat, Sasaran Lajur, katod arka, Dibuat tersuai
Proses Pengeluaran	Pencairan Vakum，PM
Saiz Tersedia	L≤200mm，W≤200mm

Hantar e-mel kepada kami

Butiran Produk

Tag Produk

Sasaran disediakan dengan mengadun serbuk Aluminium dan Tantalum atau lebur vakum diikuti dengan pemadatan kepada ketumpatan penuh. Bahan-bahan yang dipadatkan itu disinter secara pilihan dan kemudian dibentuk menjadi bentuk sasaran yang diingini.

Sasaran sputtering Tantalum Aluminium mempunyai ketulenan tinggi, struktur mikro homogen dan kekonduksian yang sangat baik. Ia digunakan secara meluas dalam pembentukan filem nipis untuk industri paparan panel rata. Aluminium Tantalum juga boleh ditambah untuk menghasilkan aloi Titanium berprestasi tinggi untuk meningkatkan kesesuaian suhu tingginya.

Kandungan kekotoran aloi Al-Ta

gubahan	kandungan（%）
	Ta	Fe	Si	C	O
AlTa60	55.0~65.0	≤0.05	≤0.02	≤0.01	≤0.05
AlTa70	65.0~75.0	≤0.05	≤0.02	≤0.01	≤0.05

Bahan Khas Kaya pakar dalam Pembuatan Sasaran Sputtering dan boleh menghasilkan Bahan Sputtering Tantalum Aluminium mengikut spesifikasi Pelanggan. Produk kami mempunyai ciri mekanikal yang sangat baik, struktur homogen, permukaan yang digilap tanpa pengasingan, liang atau retak. Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami.

Sebelumnya: Aloi AlTi Sputtering Sasaran Ketulenan Tinggi

Seterusnya: AlCu Sputtering Target Lapisan PVD Nipis Ketulenan Tinggi Dibuat Tersuai