Selamat datang ke laman web kami!

AlCu Sputtering Target Lapisan PVD Nipis Ketulenan Tinggi Dibuat Tersuai

Kuprum Aluminium

Penerangan ringkas:

kategori

Sasaran Sputtering Aloi

Formula Kimia

AlCu

Komposisi

Aluminium Tembaga

Kesucian

99.9%,99.95%,99.99%

bentuk

Plat, Sasaran Lajur, katod arka, Dibuat tersuai

Proses Pengeluaran

Pencairan Vakum,PM

Saiz Tersedia

L≤200mm,W≤200mm


Butiran Produk

Tag Produk

Sasaran sputtering Kuprum Aluminium sesuai untuk beberapa industri dan aplikasi, kerana kekerasannya yang tinggi, kekuatan tegangan dan beratnya yang ringan. Ia biasanya mempunyai kandungan kuprum 1-3% dan mempunyai sifat kimia yang serupa dengan Aluminium. AlCu mempunyai sifat mekanikal yang tinggi, kebolehmesinan yang sangat baik, dan kesesuaian suhu tinggi, jadi ia boleh menjadi bahan yang sesuai untuk aloi Aluminium berprestasi tinggi. Sasaran sputtering aloi AlCu ketulenan tinggi boleh digunakan dalam pelbagai bidang perindustrian daripada komponen semikonduktor dan fungsi elektronik.

Bahan Khas Kaya pakar dalam Pembuatan Sasaran Sputtering dan boleh menghasilkan Bahan Sputtering Kromium Aluminium mengikut spesifikasi Pelanggan. Produk kami menampilkan ciri mekanikal yang sangat baik, struktur homogen, permukaan yang digilap tanpa pengasingan, liang atau retak. Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami.


  • Sebelumnya:
  • Seterusnya: