इलेक्ट्रॉनिक उद्योगाच्या विकासासह,tउच्च-तंत्रज्ञानाच्या माहितीपासून पातळ चित्रपटांमध्ये त्याचे संक्रमण हळूहळू होते आणि कोटिंगचा कालावधी वेगाने पार पाडला जातो.. सिरेमिक टार्गेट, नॉनमेटॅलिक फिल्म इंडस्ट्रीच्या विकासाचा आधार म्हणून, अभूतपूर्व विकास साधला आहे आणि सिरेमिक लक्ष्याचे मार्केट स्केल दिवसेंदिवस विस्तारत आहे. आता बीजिंग री चे छोटे संपादक द्या.chmat कोणत्या प्रकारचे सिरेमिक टार्गेट्स आहेत याबद्दल तुमच्याशी शेअर करू? आशा आहे की ती प्रत्येकासाठी चांगली मदत होऊ शकते!
आतील सिरॅमिक प्लेन टार्गेट मटेरियल प्रामुख्याने सिंटरिंग आणि बंधनकारक प्रक्रियेचा अवलंब करते, ज्यामुळे कमाल लांबी 600 मिमी, जास्तीत जास्त 400 मिमी, जास्तीत जास्त जाडी 30 मिमी, फिलेट कोपरे, बेव्हल्ड कडा, पायऱ्या आणि यासारखे विशेष आकार निर्माण होऊ शकतात. सामान्य सिरॅमिक लक्ष्ये प्रामुख्याने ITO धोरण, मॅग्नेशियम ऑक्साईड धोरण, लोह ऑक्साईड धोरण, सिलिकॉन नायट्राइड लक्ष्य, सिलिकॉन कार्बाइड लक्ष्य, टायटॅनियम नायट्राइड लक्ष्य धोरण, झिंक ऑक्साईड धोरण, सिलिका धोरण, सिरियम ऑक्साईड लक्ष्य, झिंक सल्फाइड लक्ष्य, सिलिका धोरण, झिरकोनिया धोरण, निओबियम पेंटॉक्साइड लक्ष्य 36, टायटॅनियम डायऑक्साइड पॉलिसी, (yttrium fluoride लक्ष्य, धोरण (yttrium fluoride लक्ष्य, पॉलिसी), (yttrium fluoride लक्ष्य、200 200 200 200 200 200 200 200 200 200 200 200 2、200 2002002 2002002 2, 200 200 200 200 200 2, 200 200 200 200 2, 200 200 200 200 200 200 2, 200 200 200 200 2, 200 200 200 2002 २०० २०० २०० 2、200),सिलिकॉन नायट्राइड टार्गेट, बोरॉन नायट्राइड पॉलिसी, टायटॅनियम नायट्राइड टार्गेट, सिलिकॉन कार्बाइड टार्गेट पॉलिसी, प्रेसोडायमियम टायटॅनेट टार्गेट पॉलिसी, बेरियम टायटॅनेट टार्गेट, लॅन्थॅनम टायटॅनेट टार्गेट निकेल ऑक्साइड पॉलिसी, इ.
सिरेमिक लक्ष्यांचे प्रकार:
(१)रासायनिक रचनेनुसार, ते ऑक्साईड सिरॅमिक लक्ष्य, सिलिसाइड सिरॅमिक, नायट्राइड सिरॅमिक लक्ष्य, फ्लोराइड सिरेमिक लक्ष्य, सल्फाइड सिरेमिक लक्ष्य इत्यादींमध्ये विभागले जाऊ शकते.. या कालावधीत, प्लॅनर व्हिज्युअलायझर आयटीओ सिरॅमिक लक्ष्य चीनमध्ये मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाते. उच्च डायलेक्ट्रिक इन्सुलेटिंग फिल्म्ससाठी सिरॅमिक लक्ष्य आणि विशाल मॅग्नेटोरेसिस्टर्ससह सिरेमिक लक्ष्यांमध्ये अनुप्रयोगाच्या संभाव्यतेची विस्तृत श्रेणी आहे.
(२) ऍप्लिकेशननुसार, सेमीकंडक्टर-संबंधित सिरेमिक लक्ष्य, प्रदर्शन सिरेमिक लक्ष्य, चुंबकीय रेकॉर्डिंग सिरेमिक लक्ष्य, ऑप्टिकल रेकॉर्डिंग सिरेमिक लक्ष्य, सुपरकंडक्टिंग सिरेमिक लक्ष्य, विशाल चुंबकीय सिरेमिक लक्ष्य इत्यादींमध्ये विभागले जाऊ शकते.
विद्यमान जटिल इलेक्ट्रॉनिक उत्पादनांच्या निर्मितीमध्ये सिरेमिक लक्ष्य केवळ प्रकल्पाचा एक भाग आहे, परंतु ते माहिती उद्योगाच्या मुळाशी मार्गदर्शक डेटाची भूमिका बजावतात. चीनचा इलेक्ट्रॉनिक माहिती उद्योग वेगाने विकसित झाला आहे आणि सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्यांची मागणी दरवर्षी वाढली आहे. भविष्यात, चीनच्या लक्ष्य पुरवठादारासाठी सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्यांचे संशोधन आणि विकास हा एक महत्त्वाचा विषय आहे.
पोस्ट वेळ: एप्रिल-28-2022