बाजारातील मागणी वाढल्याने, अधिकाधिक प्रकारचे स्पटरिंग लक्ष्ये सतत अद्यतनित केली जातात. काही परिचित आहेत आणि काही ग्राहकांना अपरिचित आहेत. आता, मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग टार्गेट्सचे प्रकार काय आहेत ते आम्ही तुमच्यासोबत शेअर करू इच्छितो.
स्पटरिंग टार्गेटचे खालील प्रकार आहेत: मेटल स्पटरिंग कोटिंग टार्गेट, ॲलॉय स्पटरिंग कोटिंग टार्गेट, सिरेमिक स्पटरिंग कोटिंग टार्गेट, बोराइड सिरेमिक स्पटरिंग टार्गेट, कार्बाइड सिरेमिक स्पटरिंग टार्गेट, फ्लोराइड सिरेमिक स्पटरिंग टार्गेट, नायट्राइड सिरेमिक स्पटरिंग टार्गेट, ऑक्साइड सिरेमिक स्पटरिंग टार्गेट, ऑक्साइड सिरेमिक स्पटरिंग टार्गेट , सिलिसाइड सिरॅमिक स्पटरिंग लक्ष्य, सल्फाइड सिरॅमिक स्पटरिंग लक्ष्य, टेल्युराइड सिरॅमिक स्पटरिंग लक्ष्य, इतर सिरॅमिक लक्ष्य, क्रोमियम डोपेड सिलिकॉन ऑक्साईड सिरॅमिक लक्ष्य (CR SiO), इंडियम फॉस्फाइड लक्ष्य (INP), लीड आर्सेनाइड लक्ष्य (pbas), इंडियम आर्सेनाइड लक्ष्य (InAs).
मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग सामान्यतः दोन प्रकारांमध्ये विभागली जाते: डीसी स्पटरिंग आणि आरएफ स्पटरिंग. डीसी स्पटरिंग उपकरणांचे तत्त्व सोपे आहे आणि धातूचे स्पटरिंग करताना त्याचा दर देखील वेगवान आहे. आरएफ स्पटरिंग मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाते. प्रवाहकीय डेटा स्पटर करण्याव्यतिरिक्त, ते नॉन-कंडक्टिव्ह डेटा देखील स्पटर करू शकते. त्याच वेळी, स्पटरिंग टार्गेट ऑक्साइड, नायट्राइड आणि कार्बाइड्स यांसारखे कंपाऊंड डेटा तयार करण्यासाठी प्रतिक्रियाशील स्पटरिंग देखील करते. आरएफ वारंवारता वाढल्यास, ते मायक्रोवेव्ह प्लाझ्मा स्पटरिंग होईल. सध्या, इलेक्ट्रॉन सायक्लोट्रॉन रेझोनान्स (ईसीआर) मायक्रोवेव्ह प्लाझ्मा स्पटरिंगचा वापर सामान्यतः केला जातो.
पोस्ट वेळ: मे-18-2022