व्हॅक्यूम कोटिंगचा सिद्धांत

व्हॅक्यूम कोटिंग म्हणजे व्हॅक्यूममध्ये बाष्पीभवन स्त्रोत गरम करणे आणि बाष्पीभवन करणे किंवा प्रवेगक आयन बॉम्बर्डमेंटसह स्पटरिंग करणे, आणि एकल-लेयर किंवा मल्टी-लेयर फिल्म तयार करण्यासाठी सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर जमा करणे. व्हॅक्यूम कोटिंगचे तत्त्व काय आहे? पुढे, RSM चे संपादक आमची ओळख करून देतील.

　　1. व्हॅक्यूम बाष्पीभवन कोटिंग

बाष्पीभवन कोटिंगसाठी आवश्यक आहे की बाष्पीभवन स्त्रोतापासून वाष्प रेणू किंवा अणू आणि लेप केल्या जाणाऱ्या सब्सट्रेटमधील अंतर कोटिंग रूममधील अवशिष्ट वायू रेणूंच्या सरासरी मुक्त मार्गापेक्षा कमी असावे, जेणेकरून बाष्पीभवनाच्या रेणूंची खात्री होईल. बाष्पीभवन टक्कर न होता सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर पोहोचू शकते. खात्री करा की चित्रपट शुद्ध आणि दृढ आहे आणि बाष्पीभवन ऑक्सिडाइझ होणार नाही.

　　2. व्हॅक्यूम स्पटरिंग कोटिंग

व्हॅक्यूममध्ये, जेव्हा प्रवेगक आयन घनाशी टक्कर घेतात, तेव्हा एकीकडे, क्रिस्टलचे नुकसान होते, दुसरीकडे, ते क्रिस्टल बनविणाऱ्या अणूंशी आदळतात आणि शेवटी घनाच्या पृष्ठभागावरील अणू किंवा रेणू. बाहेरून थुंकणे. थुंकलेल्या पदार्थाचा थरावर थर चढवून पातळ फिल्म तयार केली जाते, ज्याला व्हॅक्यूम स्पटर प्लेटिंग म्हणतात. स्पटरिंगच्या अनेक पद्धती आहेत, त्यापैकी डायोड स्पटरिंग ही सर्वात जुनी पद्धत आहे. वेगवेगळ्या कॅथोड लक्ष्यांनुसार, ते थेट प्रवाह (DC) आणि उच्च वारंवारता (RF) मध्ये विभागले जाऊ शकते. आयनसह लक्ष्य पृष्ठभागावर परिणाम करून थुंकलेल्या अणूंच्या संख्येला स्पटरिंग रेट म्हणतात. उच्च स्पटरिंग रेटसह, चित्रपट निर्मितीचा वेग वेगवान आहे. स्पटरिंग रेट ऊर्जा आणि आयनचा प्रकार आणि लक्ष्य सामग्रीच्या प्रकाराशी संबंधित आहे. सर्वसाधारणपणे, मानवी आयन उर्जेच्या वाढीसह थुंकण्याचे प्रमाण वाढते आणि मौल्यवान धातूंचे थुंकण्याचे प्रमाण जास्त असते.