डेटा स्टोरेज इंडस्ट्रीमध्ये वापरल्या जाणाऱ्या लक्ष्य सामग्रीसाठी उच्च शुद्धता आवश्यक आहे आणि थुंकताना अशुद्धता कणांची निर्मिती टाळण्यासाठी अशुद्धता आणि छिद्र कमी करणे आवश्यक आहे. उच्च-गुणवत्तेच्या उत्पादनांसाठी वापरल्या जाणाऱ्या लक्ष्य सामग्रीसाठी त्याच्या क्रिस्टल कणांचा आकार लहान आणि एकसमान असणे आवश्यक आहे आणि क्रिस्टल अभिमुखता नसणे आवश्यक आहे. खाली, लक्ष्य सामग्रीसाठी ऑप्टिकल स्टोरेज उद्योगाच्या आवश्यकतांवर एक नजर टाकूया?
1. शुद्धता
व्यावहारिक अनुप्रयोगांमध्ये, लक्ष्य सामग्रीची शुद्धता भिन्न उद्योग आणि आवश्यकतांनुसार बदलते. तथापि, एकंदरीत, लक्ष्यित सामग्रीची शुद्धता जितकी जास्त असेल तितकी थुंकलेल्या चित्रपटाची कार्यक्षमता चांगली असेल. उदाहरणार्थ, ऑप्टिकल स्टोरेज उद्योगात, लक्ष्य सामग्रीची शुद्धता 3N5 किंवा 4N पेक्षा जास्त असणे आवश्यक आहे.
2. अशुद्धता सामग्री
लक्ष्य सामग्री थुंकण्यासाठी कॅथोड स्त्रोत म्हणून काम करते आणि घन आणि ऑक्सिजनमधील अशुद्धता आणि छिद्रांमधील पाण्याची वाफ पातळ फिल्म्स जमा करण्यासाठी मुख्य प्रदूषण स्रोत आहेत. याव्यतिरिक्त, विविध उपयोगांच्या लक्ष्यांसाठी विशेष आवश्यकता आहेत. ऑप्टिकल स्टोरेज उद्योगाचे उदाहरण घेतल्यास, कोटिंगची गुणवत्ता सुनिश्चित करण्यासाठी स्पटरिंग टार्गेट्समधील अशुद्धतेचे प्रमाण खूपच कमी नियंत्रित केले जाणे आवश्यक आहे.
3. धान्य आकार आणि आकार वितरण
सामान्यतः, लक्ष्य सामग्रीमध्ये पॉलीक्रिस्टलाइन रचना असते, ज्यामध्ये धान्याचे आकार मायक्रोमीटर ते मिलिमीटर असतात. समान रचना असलेल्या लक्ष्यांसाठी, बारीक धान्य लक्ष्यांचे स्पटरिंग दर भरड धान्य लक्ष्यांपेक्षा अधिक वेगवान आहे. लहान धान्य आकारातील फरक असलेल्या लक्ष्यांसाठी, जमा केलेल्या फिल्मची जाडी देखील अधिक एकसमान असेल.
4. कॉम्पॅक्टनेस
घन लक्ष्य सामग्रीमधील छिद्र कमी करण्यासाठी आणि चित्रपटाचे कार्यप्रदर्शन सुधारण्यासाठी, सामान्यतः स्पटरिंग लक्ष्य सामग्रीमध्ये उच्च घनता असणे आवश्यक आहे. लक्ष्य सामग्रीची घनता प्रामुख्याने तयारी प्रक्रियेवर अवलंबून असते. वितळणे आणि कास्टिंग पद्धतीने उत्पादित केलेले लक्ष्य सामग्री हे सुनिश्चित करू शकते की लक्ष्य सामग्रीमध्ये कोणतेही छिद्र नाहीत आणि घनता खूप जास्त आहे.
पोस्ट वेळ: जुलै-18-2023