उच्च शुद्धता झिरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य

रिच स्पेशल मटेरियल कं, लि. सेमीकंडक्टर, रासायनिक वाष्प संचय (CVD) आणि भौतिक वाष्प निक्षेप (PVD) प्रदर्शन आणि ऑप्टिकल अनुप्रयोगांमध्ये वापरण्यासाठी सर्वाधिक संभाव्य घनता आणि सर्वात लहान संभाव्य सरासरी धान्य आकारांसह उच्च शुद्धता झिरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्ये पुरवतात. पातळ फिल्मसाठी आमचे मानक स्पटरिंग लक्ष्य उपलब्ध आहेत मोनोब्लॉक किंवा प्लॅनर टार्गेट डायमेंशन्स आणि 820 मिमी पर्यंतच्या कॉन्फिगरेशनसह छिद्र ड्रिल लोकेशन्स आणि थ्रेडिंग, बेव्हलिंग, ग्रूव्ह्ज आणि बॅकिंग दोन्ही जुन्या स्पटरिंग उपकरणे तसेच नवीनतम प्रक्रिया उपकरणांसह कार्य करण्यासाठी डिझाइन केलेले, जसे की सौर ऊर्जा किंवा इंधन पेशी आणि फ्लिप-चिप ऍप्लिकेशन्ससाठी मोठ्या क्षेत्रावरील कोटिंग. संशोधन आकाराचे लक्ष्य तसेच सानुकूल आकार आणि मिश्र धातु देखील तयार केले जातात. एक्स-रे फ्लूरोसेन्स (XRF) सह सर्वोत्कृष्ट प्रात्यक्षिक तंत्र वापरून सर्व लक्ष्यांचे विश्लेषण केले जाते.