मोबाईल फोन एलसीडी वर मेटल मॉलिब्डेनम लक्ष्यांचा प्रभाव

आजकाल, मobile फोन लोकांसाठी सर्वात अपरिहार्य गोष्ट बनली आहे आणि मोबाईल फोन डिस्प्ले अधिकाधिक उच्च श्रेणीचे होत आहेत. सर्वसमावेशक स्क्रीन डिझाइन आणि लहान बँग्स डिझाइन हे मोबाइल फोन एलसीडी बनवण्यासाठी एक महत्त्वाचे पाऊल आहे. ते काय आहे हे तुम्हाला माहीत आहे का— कोटिंग: मॉलिब्डेनम टार्गेटपासून लिक्विड क्रिस्टल ग्लासपर्यंत मेटल मॉलिब्डेनम स्पटर करण्यासाठी मॅग्नेट्रॉन स्पटरिंग तंत्रज्ञान वापरा.येथे बीखालीहा लेख तुम्हाला एक विशिष्ट परिचय देईल.

पातळ फिल्म डेटा तयार करण्यासाठी एक प्रगत तंत्र म्हणून स्पटरिंगमध्ये "हाय स्पीड" आणि "कमी तापमान" अशी दोन वैशिष्ट्ये आहेत. व्हॅक्यूममध्ये हाय-स्पीड आयन प्रवाहाचे एकत्रीकरण आणि एकीकरण, घन पृष्ठभागावर भडिमार करण्यासाठी आणि आयन घन पृष्ठभागावरील अणूंसोबत गतिज उर्जेची देवाणघेवाण करण्यासाठी, आयन स्त्रोताद्वारे तयार केलेल्या आयनचा वापर करते, जेणेकरून घनतेवर अणू पृष्ठभाग लक्ष्य सोडतो आणि सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर जमा करतो आणि नंतर नॅनो (किंवा मायक्रॉन) फिल्म तयार करतो. कवचयुक्त घन म्हणजे पातळ फिल्म्सचा डेटा स्पटरिंगद्वारे जमा केला जातो, ज्याला स्पटरिंग लक्ष्य म्हणतात.

इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योगात, मॉलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्ये प्रामुख्याने फ्लॅट-पॅनल डिस्प्ले, पातळ-फिल्म सौर पेशींचे इलेक्ट्रोड आणि वायरिंग सामग्री आणि सेमीकंडक्टरच्या अडथळा सामग्रीसाठी वापरली जातात.

हे उच्च वितळण्याचे बिंदू, उच्च चालकता, कमी विशिष्ट प्रतिबाधा, चांगला गंज प्रतिकार आणि मॉलिब्डेनमचे चांगले पर्यावरण संरक्षण कार्य यावर आधारित आहेत.

पूर्वी, फ्लॅट पॅनेल डिस्प्लेचा वायरिंग डेटा प्रामुख्याने क्रोमियम होता, परंतु फ्लॅट पॅनेल डिस्प्लेच्या मोठ्या प्रमाणात आणि उच्च-सुस्पष्टतासह, प्रतिबाधापेक्षा लहान डेटा अधिकाधिक आवश्यक आहे. याव्यतिरिक्त, पर्यावरण संरक्षण देखील आवश्यक आहे. मॉलिब्डेनमचा फायदा आहे की विशिष्ट प्रतिबाधा आणि फिल्मचा ताण क्रोमियमच्या फक्त 1/2 आहे, आणि पर्यावरणीय प्रदूषणाची कोणतीही समस्या नाही, म्हणून ते फ्लॅट पॅनेल डिस्प्लेसाठी स्पटरिंग लक्ष्याच्या सामग्रीपैकी एक बनले आहे.

याव्यतिरिक्त, एलसीडी घटकांमध्ये मोलिब्डेनमचा वापर केल्याने ब्राइटनेस, कॉन्ट्रास्ट, रंग आणि सेवा जीवनात एलसीडीची कार्ये मोठ्या प्रमाणात सुधारू शकतात. TFT-LCD हे फ्लॅट पॅनेल डिस्प्ले उद्योगातील मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्याचे सर्वात महत्वाचे अनुप्रयोग आहे.

मार्केट रिसर्च असे दर्शविते की पुढील काही वर्षे एलसीडी विकासाची शिखरे असतील, वार्षिक वाढीचा दर सुमारे 30% असेल. एलसीडीच्या विकासासह, एलसीडी स्पटरिंग लक्ष्याचा वापर देखील वेगाने वाढत आहे, वार्षिक वाढीचा दर सुमारे 20% आहे.

फ्लॅट पॅनेल डिस्प्ले व्यवसायाव्यतिरिक्त, नवीन ऊर्जा व्यवसायाच्या विकासासह, पातळ-फिल्म सौर फोटोव्होल्टेइक पेशींमध्ये मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्याचा वापर देखील वाढत आहे.

सीआयजीएस (कॉपर इंडियम गॅलियम सेलेनियम) पातळ फिल्म बॅटरीचा इलेक्ट्रोड थर तयार करण्यासाठी मॉलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य मुख्यतः स्पटर केले जाते. Mo सौर सेलच्या तळाशी आहे. सौर सेलचा मागील स्पर्श म्हणून, ते CIGS पातळ फिल्म क्रिस्टल्सच्या न्यूक्लिएशन, वाढ आणि वर्णनात खूप महत्त्वाची भूमिका बजावते.