Бөөний NiCrCu Sputtering Зорилтот Өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальс Pvd бүрээсийг захиалгаар хийсэн үйлдвэрлэгч ба нийлүүлэгч

Никель хром зэс

NiCrCu Sputtering Зорилтот Өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальс Pvd бүрэх захиалгаар хийсэн Онцлох зураг

Богино тайлбар:

Ангилал	Хайлш цацах зорилт
Химийн томъёо	NiCrCu
Найрлага	Никель хром зэс
Цэвэр байдал	99.5%，99.7%，99.9%，99.99%
Хэлбэр	Хавтан, баганын зорилт, нуман катод, захиалгаар хийсэн
Үйлдвэрлэлийн үйл явц	Вакуум хайлуулах
Боломжтой хэмжээ	L≤2000мм,В≤350мм

Бидэн рүү имэйл илгээнэ үү

Бүтээгдэхүүний дэлгэрэнгүй

Бүтээгдэхүүний шошго

NiCrCu Sputtering зорилтот никель хром зэсийн түүхий эдийг хайлуулах, цутгах замаар үйлдвэрлэдэг. Энэ нь өндөр эсэргүүцэлтэй, бага температурын коэффициенттэй, өндөр мэдрэмжтэй байдаг. Никель ба хром нь ижил төстэй гадаргуугийн энергитэй бөгөөд NiCrCu нимгэн хальсан хуримтлалын найрлага нь шүрших зорилттой төстэй тул тунадасны үр дүнг хянахад хялбар байдаг.

Rich Special Materials нь никель хромын зэс цацах материал үйлдвэрлэх чиглэлээр мэргэшсэн. Дэлгэрэнгүй мэдээлэл авахыг хүсвэл бидэнтэй холбогдоно уу.

Өмнөх: NiCrAlY Sputtering Зорилтот Өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальс Pvd бүрэх захиалгаар хийсэн

Дараа нь: NiAl Sputtering Зорилтот Өндөр цэвэршилттэй нимгэн хальс Pvd бүрэх захиалгаар хийсэн